[实用新型]一种方便对内部进行清洁的立式反应釜

权利要求书

1.一种方便对内部进行清洁的立式反应釜，包括反应釜桶体（1），其特征在于：所述反应釜桶体（1）的底部固定安装有支撑座（2），所述支撑座（2）的顶部固定连接有调节箱（3），所述调节箱（3）的内部设置有调节机构，所述调节箱（3）的侧面通过导轨滑动连接有调节座（4），所述调节座（4）的表面通过连轴转动连接有调节杆（5），所述调节箱（3）的顶部通过合页转动连接有封盖（6），所述封盖（6）的表面通过轴承座转动连接有前后对称分布的转轴（7），所述转轴（7）的表面通过轴承座与调节杆（5）远离调节座（4）的一端转动连接，所述封盖（6）的顶部固定连接有控制盘（8），所述控制盘（8）的内部通过轴承座转动连接有控制套筒（9），所述控制套筒（9）的内部设置有变向转动机构。

2.根据权利要求1所述的一种方便对内部进行清洁的立式反应釜，其特征在于：所述变向转动机构包括对称分布的支撑架（10），所述支撑架（10）的底部与控制盘（8）的底部内壁固定连接，所述支撑架（10）的内部通过导轨滑动连接有变向控制杆（11），所述控制盘（8）的顶部通过安装座固定安装有驱动电机（12），所述驱动电机（12）的输出轴通过联轴器固定连接有穿设于反应釜桶体（1）、控制套筒（9）和控制盘（8）内部的搅拌轴（13），所述搅拌轴（13）伸入控制盘（8）内部的一端开设有第一变向槽（14），所述第一变向槽（14）的内壁与变向控制杆（11）的一端活动衔接。

3.根据权利要求2所述的一种方便对内部进行清洁的立式反应釜，其特征在于：所述控制套筒（9）的内壁开设有第二变向槽（15），所述第二变向槽（15）的内壁与与变向控制杆（11）远离第一变向槽（14）的一端表面活动衔接。

4.根据权利要求1所述的一种方便对内部进行清洁的立式反应釜，其特征在于：所述调节机构包括调节电机（16），所述调节电机（16）的底部通过安装座与调节箱（3）的内壁固定连接，所述调节箱（3）的内部固定安装有对称分布的分隔板（17），所述调节电机（16）的输出轴通过联轴器固定连接有穿设于分隔板（17）内部的调节轴（18）。

5.根据权利要求4所述的一种方便对内部进行清洁的立式反应釜，其特征在于：所述调节轴（18）伸出分隔板（17）内部的一端表面固定套接有对称分布的主动带轮（19），两个所述分隔板（17）相对的一侧固定连接有穿设于分隔板（17）内部的从动轴（20），两个所述从动轴（20）伸出分隔板（17）的一端表面均固定套接有从动带轮（21），所述从动带轮（21）与主动带轮（19）的表面均传动连接有传动皮带（22）。

6.根据权利要求5所述的一种方便对内部进行清洁的立式反应釜，其特征在于：所述从动轴（20）的表面固定套接有调节辊筒（23），所述调节辊筒（23）的表面开设有调节槽（24），所述调节槽（24）的内壁与调节座（4）伸入调节箱（3）内部的一端表面活动衔接。

7.根据权利要求6所述的一种方便对内部进行清洁的立式反应釜，其特征在于：所述控制套筒（9）的底部固定连接有穿设于反应釜桶体（1）内部的搅拌套筒（25），所述搅拌套筒（25）和搅拌轴（13）的表面均固定套接有搅拌清洁杆（26），所述搅拌清洁杆（26）与反应釜桶体（1）的内壁活动衔接。