[实用新型]单克隆抗体制备用HAT选择性培养基有效

专利信息
申请号: 202121132155.2 申请日: 2021-05-25
公开(公告)号: CN215250926U 公开(公告)日: 2021-12-21
发明(设计)人: 杨波;李也鹏;黄世庆;韦忠恒;侯世豪;蒋彩英;赵净洁 申请(专利权)人: 右江民族医学院附属医院
主分类号: C12M3/00 分类号: C12M3/00;C12M1/00
代理公司: 北京远大卓悦知识产权代理有限公司 11369 代理人: 靳雪华
地址: 533000 广西壮族*** 国省代码: 广西;45
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 单克隆抗体 制备 hat 选择性 培养基
【说明书】:

实用新型公开了一种单克隆抗体制备用HAT选择性培养基,包括:基体座板,以及设置在基体座板上端的培养内室,且培养内室与基体座板一体成型设置;十字分隔框架,其安装在培养内室的内部,所述十字分隔框架的外壁上设置有十字插接板,且十字分隔框架通过十字插接板与培养内室内部的十字插槽插接安装;顶罩框架,其安装在所述基体座板的上端,所述顶罩框架的下端设置有四个插接连杆,且插接连杆与顶罩框架一体成型设置,其实现了在单个选择性培养基的内部一次培养多个生物抗体的功能,从而在同一环境的前提下对多个生物抗体进行区分对比的制备实验,避免了造成实验器材的浪费,难以保持多个培养基环境条件相同的问题。

技术领域

本实用新型涉及选择性培养基技术领域,尤其涉及一种单克隆抗体制备用HAT选择性培养基。

背景技术

培养基在实验中不可缺少的器材之一,选择性培养基,是指根据某种微生物特殊的营养要求或对某些特殊化学、物理因素的抗性而设计的,能选择性区分这种微生物的培养基,HAT选择性培养基是根据次黄嘌呤核苷酸和嘧啶核苷酸生物合成途径设计的,HAT培养基也就是指含有这三种物质的细胞培养基。

现有的HAT选择性培养基在使用的过程中无法在同一环境的前提下对多个生物抗体进行区分对比的制备实验,进行区别对比时需要借助多个培养基,不仅造成实验器材的浪费,也很难保持多个培养基的环境条件相同,为此,我们提供一种单克隆抗体制备用HAT选择性培养基。

实用新型内容

本实用新型的一个目的是解决至少上述问题,并提供至少后面将说明的优点。

本实用新型还有一个目的是提供一种单克隆抗体制备用HAT选择性培养基,实现了在单个选择性培养基的内部一次培养多个生物抗体的功能,从而在同一环境的前提下对多个生物抗体进行区分对比的制备实验,避免了造成实验器材的浪费,难以保持多个培养基环境条件相同的问题。

为实现上述目的和一些其他的目的,本实用新型采用如下技术方案:

一种单克隆抗体制备用HAT选择性培养基,包括:基体座板,以及设置在基体座板上端的培养内室,且培养内室与基体座板一体成型设置;

十字分隔框架,其安装在培养内室的内部,所述十字分隔框架的外壁上设置有十字插接板,且十字分隔框架通过十字插接板与培养内室内部的十字插槽插接安装;

顶罩框架,其安装在所述基体座板的上端,所述顶罩框架的下端设置有四个插接连杆,且插接连杆与顶罩框架一体成型设置;

中心端口,其设置在顶罩框架上端的中心位置上,所述中心端口的内部设置有透视镜,且透视镜与中心端口机械密封连接;

连杆插孔,其设置在所述基体座板的内部,且顶罩框架通过四个插接连杆与基体座板内部的连杆插孔插接安装;

端面拉槽,其设置在所述中心端口的两侧,且端面拉槽与顶罩框架一体成型设置。

优选的是,四个所述插接连杆的内部均设置有螺纹孔,且螺纹孔与插接连杆一体成型设置,所述连杆插孔的内部设置有螺纹孔道和连接螺槽,且螺纹孔道和连接螺槽与基体座板一体成型设置。

优选的是,所述螺纹孔、螺纹孔道和连接螺槽位于同一水平线上,所述螺纹孔、螺纹孔道和连接螺槽的内部安装有螺纹插销,且插接连杆通过螺纹插销与基体座板固定连接。

优选的是,所述端面拉槽的内部设置有提拉杆,所述提拉杆的长度等于端面拉槽的直径,且提拉杆与顶罩框架一体成型设置。

优选的是,所述透视镜的内部中心位置上设置有透气孔,且透气孔与透视镜一体成型设置。

优选的是,所述培养内室的内壁上设置有四个直线边框,且直线边框与培养内室一体成型设置,所述十字分隔框架的四端通过直线边框与培养内室接触连接。

本实用新型至少包括以下有益效果:

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于右江民族医学院附属医院,未经右江民族医学院附属医院许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202121132155.2/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top