[实用新型]电磁屏蔽膜及线路板有效

专利信息
申请号: 202121108984.7 申请日: 2021-05-21
公开(公告)号: CN215735627U 公开(公告)日: 2022-02-01
发明(设计)人: 汪银 申请(专利权)人: 江西展耀微电子有限公司
主分类号: H05K9/00 分类号: H05K9/00;H05K1/02
代理公司: 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 代理人: 侯武娇
地址: 330117 江西省南昌市临空经济区*** 国省代码: 江西;36
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 电磁 屏蔽 线路板
【权利要求书】:

1.一种电磁屏蔽膜,其特征在于,包括:

承载膜;

绝缘层,设于所述承载膜上;

第一镍铬合金层,设于所述绝缘层的远离所述承载膜的一侧;

铜层,设于所述第一镍铬合金层的远离所述绝缘层的一侧;

第二镍铬合金层,设于所述铜层的远离所述第一镍铬合金层的一侧;

导电胶层,设于所述第二镍铬合金层的远离所述铜层的一侧;及

保护膜,设于所述导电胶层的远离所述第二镍铬合金层的一侧。

2.如权利要求1所述的电磁屏蔽膜,其特征在于,沿垂直于所述承载膜方向,所述第一镍铬合金层的厚度为1nm~100nm;和/或,

沿垂直于所述承载膜方向,所述第二镍铬合金层的厚度为1nm~100nm。

3.如权利要求1所述的电磁屏蔽膜,其特征在于,沿垂直于所述承载膜方向,所述铜层的厚度为5nm~5000nm。

4.如权利要求1所述的电磁屏蔽膜,其特征在于,沿垂直于所述承载膜方向,所述第一镍铬合金层的厚度为15nm~30nm;和/或

沿垂直于所述承载膜方向,所述第二镍铬合金层的厚度为15nm~30nm;和/或

沿垂直于所述承载膜方向,所述铜层的厚度为200nm~600nm。

5.如权利要求1至4任一项所述的电磁屏蔽膜,其特征在于,沿垂直于所述承载膜方向,所述承载膜的厚度为25μm~150μm;和/或,

沿垂直于所述承载膜方向,所述绝缘层的厚度为2μm~30μm;和/或,

沿垂直于所述承载膜方向,所述导电胶层的厚度为2μm~30μm;和/或,

沿垂直于所述承载膜方向,所述保护膜的厚度为25μm~100μm。

6.如权利要求1至4任一项所述的电磁屏蔽膜,其特征在于,所述绝缘层为黑色绝缘油墨层。

7.如权利要求1至4任一项所述的电磁屏蔽膜,其特征在于,所述承载膜为PET承载膜;和/或,

所述保护膜为PET保护膜。

8.如权利要求1至4任一项所述的电磁屏蔽膜,其特征在于,

沿垂直于所述承载膜方向,所述承载膜的厚度为48μm~52μm;

沿垂直于所述承载膜方向,所述绝缘层的厚度为6μm~10μm;

沿垂直于所述承载膜方向,所述第一镍铬合金层的厚度为20nm;

沿垂直于所述承载膜方向,所述铜层的厚度为400nm;

沿垂直于所述承载膜方向,所述第二镍铬合金层的厚度为20nm;

沿垂直于所述承载膜方向,所述导电胶层的厚度为5μm~7μm;

沿垂直于所述承载膜方向,所述保护膜的厚度为72μm~78μm。

9.如权利要求1至4任一项所述的电磁屏蔽膜,其特征在于,所述铜层包括层叠设置的真空镀铜层和化学沉铜层,所述真空镀铜层位于所述第一镍铬合金层与所述化学沉铜层之间,所述化学沉铜层位于所述真空镀铜层与所述第二镍铬合金层之间。

10.一种线路板,其特征在于,包括线路板本体和权利要求1至9任一项所述的电磁屏蔽膜,所述电磁屏蔽膜设于所述线路板本体上。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于江西展耀微电子有限公司,未经江西展耀微电子有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202121108984.7/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top