[实用新型]电磁屏蔽膜及线路板有效
申请号: | 202121108984.7 | 申请日: | 2021-05-21 |
公开(公告)号: | CN215735627U | 公开(公告)日: | 2022-02-01 |
发明(设计)人: | 汪银 | 申请(专利权)人: | 江西展耀微电子有限公司 |
主分类号: | H05K9/00 | 分类号: | H05K9/00;H05K1/02 |
代理公司: | 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人: | 侯武娇 |
地址: | 330117 江西省南昌市临空经济区*** | 国省代码: | 江西;36 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 电磁 屏蔽 线路板 | ||
1.一种电磁屏蔽膜,其特征在于,包括:
承载膜;
绝缘层,设于所述承载膜上;
第一镍铬合金层,设于所述绝缘层的远离所述承载膜的一侧;
铜层,设于所述第一镍铬合金层的远离所述绝缘层的一侧;
第二镍铬合金层,设于所述铜层的远离所述第一镍铬合金层的一侧;
导电胶层,设于所述第二镍铬合金层的远离所述铜层的一侧;及
保护膜,设于所述导电胶层的远离所述第二镍铬合金层的一侧。
2.如权利要求1所述的电磁屏蔽膜,其特征在于,沿垂直于所述承载膜方向,所述第一镍铬合金层的厚度为1nm~100nm;和/或,
沿垂直于所述承载膜方向,所述第二镍铬合金层的厚度为1nm~100nm。
3.如权利要求1所述的电磁屏蔽膜,其特征在于,沿垂直于所述承载膜方向,所述铜层的厚度为5nm~5000nm。
4.如权利要求1所述的电磁屏蔽膜,其特征在于,沿垂直于所述承载膜方向,所述第一镍铬合金层的厚度为15nm~30nm;和/或
沿垂直于所述承载膜方向,所述第二镍铬合金层的厚度为15nm~30nm;和/或
沿垂直于所述承载膜方向,所述铜层的厚度为200nm~600nm。
5.如权利要求1至4任一项所述的电磁屏蔽膜,其特征在于,沿垂直于所述承载膜方向,所述承载膜的厚度为25μm~150μm;和/或,
沿垂直于所述承载膜方向,所述绝缘层的厚度为2μm~30μm;和/或,
沿垂直于所述承载膜方向,所述导电胶层的厚度为2μm~30μm;和/或,
沿垂直于所述承载膜方向,所述保护膜的厚度为25μm~100μm。
6.如权利要求1至4任一项所述的电磁屏蔽膜,其特征在于,所述绝缘层为黑色绝缘油墨层。
7.如权利要求1至4任一项所述的电磁屏蔽膜,其特征在于,所述承载膜为PET承载膜;和/或,
所述保护膜为PET保护膜。
8.如权利要求1至4任一项所述的电磁屏蔽膜,其特征在于,
沿垂直于所述承载膜方向,所述承载膜的厚度为48μm~52μm;
沿垂直于所述承载膜方向,所述绝缘层的厚度为6μm~10μm;
沿垂直于所述承载膜方向,所述第一镍铬合金层的厚度为20nm;
沿垂直于所述承载膜方向,所述铜层的厚度为400nm;
沿垂直于所述承载膜方向,所述第二镍铬合金层的厚度为20nm;
沿垂直于所述承载膜方向,所述导电胶层的厚度为5μm~7μm;
沿垂直于所述承载膜方向,所述保护膜的厚度为72μm~78μm。
9.如权利要求1至4任一项所述的电磁屏蔽膜,其特征在于,所述铜层包括层叠设置的真空镀铜层和化学沉铜层,所述真空镀铜层位于所述第一镍铬合金层与所述化学沉铜层之间,所述化学沉铜层位于所述真空镀铜层与所述第二镍铬合金层之间。
10.一种线路板,其特征在于,包括线路板本体和权利要求1至9任一项所述的电磁屏蔽膜,所述电磁屏蔽膜设于所述线路板本体上。
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