[实用新型]一种改善瓷砖中弯的下模、成型模具有效
申请号: | 202121044348.2 | 申请日: | 2021-05-14 |
公开(公告)号: | CN215618819U | 公开(公告)日: | 2022-01-25 |
发明(设计)人: | 管蒙蒙;李丹锋;刘涛;易仕伟;杨奎彬 | 申请(专利权)人: | 海鸥冠军建材(烟台)有限公司 |
主分类号: | B28B7/00 | 分类号: | B28B7/00 |
代理公司: | 北京远大卓悦知识产权代理有限公司 11369 | 代理人: | 祁云珊 |
地址: | 264010 山东*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 改善 瓷砖 成型 模具 | ||
本实用新型提供一种改善瓷砖中弯的下模,包括下模本体,所述下模本体,包括成型面板,用以成型瓷砖下表面;所述成型面板包括若干成型槽,用以形成所述瓷砖背面的凸起结构;其中,所述成型面板至少包括槽深不同的成型区;越靠近所述成型面板边缘的成型区的槽深越小。本实用新型还提供一种成型模具。通过对下模本体成型面板不同成型区的槽深的设计,使得布料时成型面板中间部位成型槽内粉料堆积厚度略大于其边缘处部位成型槽内粉料堆积厚度,加压成型后坯体中间部位的密度得到弥补,从而缩小或消除密度差,以控制烧成后的瓷砖产品的中间部位的弯曲度符合标准。
技术领域
本实用新型涉及瓷砖模具技术领域,尤其涉及一种改善瓷砖中弯的下模、成型模具。
背景技术
瓷砖生产过程中,坯体成型时由于粉料粒径的差异,布料过程中,细粉会更多的聚集在外围边部,加压成型后会造成坯体外围和中间部位的密度不同,即中间部位密度低于外围。密度不均匀的坯体在烧成后砖型差,瓷砖中间弯曲度超出标准范围,影响铺贴的美观性。
实用新型内容
为了克服现有技术的不足,本实用新型提供一种改善瓷砖中弯的下模,通过下模本体结构的设计,减小或消除加压成型所得的坯体各部位密度差,以改善烧成所得的瓷砖中间部位弯曲度超标。
为了实现以上目的,本实用新型通过以下技术方案实现。
本实用新型提供一种改善瓷砖中弯的下模,包括下模本体,所述下模本体,包括成型面板,用以成型瓷砖下表面;所述成型面板包括若干成型槽,用以形成所述瓷砖背面的凸起结构;其中,
所述成型面板至少包括两槽深不同的成型区;越靠近所述成型面板边缘的成型区的槽深越小。
优选地,所述成型面板设有若干阵列排布的第一凸起;相邻两所述第一凸起之间形成所述成型槽。
优选地,所述成型面板为对称结构。
优选地,不同的所述成型区的数目为至少四个。
优选地,相邻两所述成型区的槽深相差0.08-0.12mm。
优选地,中心部位的所述成型区的槽深为0.95±0.02mm。
优选地,所述成型面板四边角处分别形成一成型区;所述成型面板的边角轮廓处分别设有一第二凸起,用以形成瓷砖背面拐角处的凹陷结构。
优选地,所述成型面板靠近周侧边缘处设有:
凹槽,自所述成型面板侧壁向其中心部位方向向上倾斜,用以形成瓷砖背面周边切割区;
凸肋,连接于所述凹槽内侧,用以形成瓷砖背面一圈边框装饰结构。
本实用新型第二个目的是提供一种成型模具,包括如上所述的一种改善瓷砖中弯的下模。
优选地,还包括用以改善瓷砖边部积釉的上模;所述上模包括凹腔,用以容纳成型粉料,以成型瓷砖的上表面;所述凹腔周侧拐角处形成圆角;
所述圆角包括若干段弧面;越靠近所述凹腔底部的湖弧面半径越大。
相比现有技术,本实用新型的有益效果在于:
本实用新型提供一种改善瓷砖中弯的下模,包括下模本体,下模本体的成型面板至少包括两槽深不同的成型区,越靠近所述成型面板边缘的成型区的槽深越小,进而使得布料时成型面板中间部位成型槽内粉料堆积厚度略大于其边缘处部位成型槽内粉料堆积厚度,加压成型后坯体中间部位的密度得到弥补,从而缩小或消除密度差,以控制烧成后的瓷砖产品的中间部位的弯曲度符合标准。
本实用新型还提供一种成型模具,还包括上模,通过设计上模凹腔边部圆角的弧面结构,使圆角的弧度整体放缓,釉浆在成型坯体的边部张力下降,可有效解决边部积釉的问题,从而减少为后续制程带来的品质问题。
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