[实用新型]一种双模组缸套标刻设备

说明书

本实用新型属于缸套标刻设备技术领域，公开了一种双模组缸套标刻设备，包括操作台、缸套固定旋转台、激光标刻系统和电磁点阵标刻系统，激光标刻系统包括激光标刻头和激光标刻头调节组件，激光标刻头设于激光标刻头调节组件上，且激光标刻头朝向缸套的外侧壁，激光标刻头调节组件可调节激光标刻头的竖直高度及激光标刻头与缸套外侧壁的距离，电磁点阵标刻系统包括电磁点阵标刻头和电磁点阵标刻头调节组件，电磁点阵标刻头设于电磁点阵标刻头调节组件上，且电磁点阵标刻头朝向缸套的上端面，电磁点阵标刻头调节组件可调节电磁点阵标刻头与缸套上端面的距离及电磁点阵标刻头的水平位置。该设备能同时满足不同的标刻需求。

技术领域

本实用新型属于缸套标刻设备技术领域，具体地，涉及一种双模组缸套标刻设备。

背景技术

现有的标刻设备包括多种，例如：激光标刻设备、电磁点阵标刻设备、点阵喷涂设备、气动标刻设备等，各个标刻设备均具备其特点。为了满足不同的生产需求，需要在特定的场所使用定制的标刻设备。当同一工件(缸套)需要进行不同形式的标刻时，存在操作复杂、人员效率低、生产空间需求大等问题。

实用新型内容

针对现有技术存在的上述问题，本实用新型的目的是提供一种双模组缸套标刻设备，通过合理的结构设置，将激光标刻系统与电磁点阵标刻系统结合一起，能同时对工件进行不同形式的标刻。

为了实现上述目的，本实用新型通过以下技术方案实现的：

一种双模组缸套标刻设备，包括操作台、缸套固定旋转台、激光标刻系统和电磁点阵标刻系统，所述缸套固定旋转台设于操作台上，所述激光标刻系统包括激光标刻头和激光标刻头调节组件，激光标刻头设于激光标刻头调节组件上，且激光标刻头朝向缸套的外侧壁，激光标刻头调节组件可调节激光标刻头的竖直高度及激光标刻头与缸套外侧壁的距离，所述电磁点阵标刻系统包括电磁点阵标刻头和电磁点阵标刻头调节组件，电磁点阵标刻头设于电磁点阵标刻头调节组件上，且电磁点阵标刻头朝向缸套的上端面，电磁点阵标刻头调节组件可调节电磁点阵标刻头与缸套上端面的距离及电磁点阵标刻头的水平位置。

优选地，所述操作台的台面为大理石防震台面。

优选地，所述激光标刻头调节组件包括水平调节轴和竖直调节轴，所述水平调节轴设于缸套固定旋转台的一侧，且沿着缸套固定旋转台的径向设置，竖直调节轴滑动连接在水平调节轴上，激光标刻头滑动连接在竖直调节轴上。

进一步优选地，所述水平调节轴和竖直调节轴均为直线模组。

优选地，所述电磁点阵标刻头调节组件包括调节Z轴和双轴直线导轨，所述双轴直线导轨包括X轴直线导轨和Y轴直线导轨，所述Y轴直线导轨滑动连接在X轴直线导轨上，所述电磁点阵标刻头滑动连接在Y轴直线导轨上，所述双轴直线导轨滑动连接在调节Z轴上。

进一步优选地，所述调节Z轴为直线模组。

优选地，该缸套标刻设备还包括护罩，护罩设在操作台上，缸套固定旋转台、激光标刻系统和电磁点阵标刻系统位于护罩内，护罩上设有开合门。

本实用新型中还包括能够使该双模组缸套标刻设备正常使用的其它组件，例如，还包括控制该缸套标刻设备运行的控制装置，分别与激光标刻头、电磁点阵标刻头配合使用的其它系统组件，这些都属于本领域的常规选择。另外，本实用新型中未加限定的装置或组件均采用本领域中的常规手段，例如，激光标刻头、电磁点阵标刻头、直线模组、直线导轨等均采用常规设置。需要强调的是，本实用新型主要保护标刻设备的结构，对于控制装置对激光标刻系统、电磁点阵标刻系统等的控制方式均可根据现有技术实现，控制装置可以包括操作键盘、鼠标、显示器等。