[实用新型]一种分子束外延生产设备中的4吋转3吋衬底托板

权利要求书

1.一种分子束外延生产设备中的4吋转3吋衬底托板，其特征在于，所述衬底托板包括4吋托板和转换托板；

所述4吋托板包括托板本体和形成在所述托板本体上的第一圆形通孔，所述第一圆形通孔的周围形成有第一环形台阶，所述第一环形台阶的上表面低于所述托板本体的上表面，所述第一环形台阶用于承载具有对应尺寸的热辐射阻挡环，沿所述第一环形台阶的内圆周的底部设置有多个第一突出部，所述多个第一突出部在与所述托板本体的上表面平行的同一平面内沿朝向所述第一圆形通孔的圆心方向延伸，所述多个第一突出部共同用于承载4吋衬底片，所述多个第一突出部中的每个第一突出部的延伸长度均相等，并且所述多个第一突出部中的第一突出部的数量大于或等于3个；

所述第一环形台阶还用于承载所述转换托板，所述转换托板的外周形状以及尺寸与所述第一圆形通孔的形状及尺寸匹配，所述转换托板的外周上设置有一个倒置环形台阶，所述倒置环形台阶的台阶表面高于所述转换托板的下表面，在将所述转换托板放置在所述4吋托板上时，所述倒置环形台阶的台阶表面与所述第一环形台阶的上表面接触，并且所述倒置环形台阶的内环直径小于突出部限定圆形的直径，所述突出部限定圆形由所述多个第一突出部中的每个第一突出部的靠近所述第一圆形通孔的圆心的端部共同限定，所述转换托板的中心形成有第二圆形通孔，所述第二圆形通孔的周围形成有第二环形台阶，所述第二环形台阶的上表面低于所述转换托板的上表面，所述第二环形台阶用于承载具有对应尺寸的热辐射阻挡环，沿所述第二环形台阶的内圆周的底部设置有多个第二突出部，所述多个第二突出部在与所述转换托板的上表面平行的同一平面内沿朝向所述第二圆形通孔的圆心方向延伸，所述多个第二突出部共同用于承载3吋衬底片，所述多个第二突出部中的每个第二突出部的延伸长度均相等，并且所述多个第二突出部中的第二突出部的数量与所述多个第一突出部中的第一突出部的数量相等；

所述转换托板的外圆周上设置有限位突起，在所述托板本体上的所述第一环形台阶的外圆周上设置有限位凹槽，所述限位突起的形状及尺寸与所述限位凹槽的形状及尺寸匹配。

2.根据权利要求1所述的分子束外延生产设备中的4吋转3吋衬底托板，其特征在于，所述多个第一突出部沿所述第一环形台阶的内圆周的底部等间距设置，并且所述多个第二突出部沿所述第二环形台阶的内圆周的底部等间距设置。

3.根据权利要求2所述的分子束外延生产设备中的4吋转3吋衬底托板，其特征在于，所述多个第一突出部中的第一突出部的数量的范围为3个至6个。

4.根据权利要求3所述的分子束外延生产设备中的4吋转3吋衬底托板，其特征在于，所述多个第一突出部中的第一突出部的数量为4个。

5.根据权利要求4所述的分子束外延生产设备中的4吋转3吋衬底托板，其特征在于，所述限位突起与所述多个第二突出部中的每个第二突出部形成的圆心角分别等于所述限位凹槽与所述多个第一突出部中的对应的第一突出部形成的圆心角，从而使得在将所述转换托板放置在所述4吋托板上时，通过所述限位突起与所述限位凹槽匹配限位，所述多个第二突出部中的每个第二突出部的延伸方向与所述多个第一突出部中的对应的第一突出部的延伸方向相同。

6.根据权利要求5所述的分子束外延生产设备中的4吋转3吋衬底托板，其特征在于，所述限位凹槽的槽底面与所述第一环形台阶的上表面共面。

7.根据权利要求1所述的分子束外延生产设备中的4吋转3吋衬底托板，其特征在于，所述第一环形台阶以及所述第二环形台阶的宽度的范围均为1mm至2mm，所述第一环形台阶以及所述第二环形台阶的厚度的范围均为2mm至4mm。

8.根据权利要求7所述的分子束外延生产设备中的4吋转3吋衬底托板，其特征在于，所述多个第二突出部中的每个第二突出部以及所述多个第一突出部中的每个第一突出部的延伸长度的范围均为0.7mm至1.5mm，所述多个第二突出部中的每个第二突出部以及所述多个第一突出部中的每个第一突出部的厚度的范围均为0.7mm至1.5mm。