[实用新型]一种半导体固定花篮

说明书

本实用新型涉及一种半导体固定花篮，包括相互连接的挂杆及载台，载台上设有多个插槽；每个插槽包括底部槽、左侧槽及右侧槽，放入的晶片与底部槽、左侧槽及右侧槽三个点接触；载台的左侧及右侧的侧壁分别开有进水通孔及出水通孔。这种方案在载台上设有多个包括底部槽、左侧槽及右侧槽的插槽，在晶片插入插槽内时，晶片仅仅与底部槽、左侧槽及右侧槽三个点接触。三点式的接触设置具有结构简易紧凑、应用方便、有效减少片源表面溶液残留及脏污问题的特点。同时，去离子水从进水孔流入载台内，经过出水孔流出，过程中，由于晶片与晶片之间空间狭小，去离子水在狭窄空间的流速将会变大，水流将从载台出水孔流出从而带走脏污以及残留溶液。

技术领域

本实用新型涉及半导体加工设备技术领域，特别是涉及一种半导体固定花篮。

背景技术

无论从科技或是经济发展的角度来看，半导体的重要性都是非常巨大的。大部分的电子产品，如计算机、移动电话或是数字录音机当中的核心单元都和半导体有着极为密切的关联。半导体工艺制造中使用花篮对片源进行固定，从而进行清洗是必不可少的也是最重要的步骤。

现有的半导体固定花篮，花篮上设有与晶片相适配的条形凹槽，晶片则插入到该凹槽内进行固定。但是此种花篮与晶片之间的接触面积较大，在冲洗时，接触面处时常会造成片源表面脏污或者表面溶液残留，从而影响整个器件的性能与寿命，也可能会造成后续表面钝化层脱落从而引起工艺故障，这对于整个半导体产线的影响是十分严重的。因此，如何设计一种与晶片接触面积小且固定紧固的花篮，是目前亟待解决的一个问题。

实用新型内容

基于此，有必要针对现有花篮与晶片接触面积大，容易造成晶片表面溶液残留的问题，提供一种半导体固定花篮。

一种半导体固定花篮，包括相互连接的挂杆及载台，所述载台上设有多个插槽；每个所述插槽包括底部槽、左侧槽及右侧槽，插入的晶片与所述底部槽、所述左侧槽及所述右侧槽三个点接触；所述载台的左侧及右侧的侧壁分别开有进水通孔及出水通孔。

其中，为了进一步减少晶片的接触面积，同时又保证晶片固定牢固，所述插槽包括分别设置于底部、左侧及右侧位置且并排设置的多个凸起的限位块，相邻的两片所述限位块共同形成一所述底部槽、所述左侧槽或所述右侧槽。

其中，为了便于放置、拿取晶片，同时也为了加快冲洗水流的流速，所述插槽的前端设有晶片取放口，所述插槽的后端设有挡水板。

其中，为了便于拿取晶片，所述晶片取放口为半圆弧形开口。

其中，为了便于载台的固定、安装，所述挡水板的后方设有螺纹孔，所述挂杆的一端设有螺纹部，所述挂杆通过所述螺纹部及所述螺纹孔可拆卸地固定于所述载台上。

其中，为了便于拿取挂杆，所述挂杆远离所述螺纹部的一端设有把手。

其中，为了使得半导体固定花篮具有抗酸抗碱、耐高温、摩擦系数的特性，所述挂杆及所述载台都为特氟龙材料制成。

本实用新型技术方案，通过相互连接的挂钩及载台形成了一种半导体固定花篮，而载台上设有多个包括底部槽、左侧槽及右侧槽的插槽，在晶片插入插槽内时，晶片仅仅与底部槽、左侧槽及右侧槽三个点接触。三点式的接触设置具有结构简易紧凑、应用方便、有效减少片源表面溶液残留及脏污问题的特点。同时，去离子水从进水孔流入载台内，经过出水孔流出，过程中，由于晶片与晶片之间空间狭小，去离子水在狭窄空间的流速将会变大，水流将从载台出水孔流出从而带走脏污以及残留溶液。本方案能有效避免常规花篮对片源清洗的不到位导致溶液残留与脏污残留的缺点，且可有效减少堆积在卡槽内的脏污。

附图说明

图1为本实用新型的半导体固定花篮一实施例的整体示意图；

图2为图1所示中半导体固定花篮一实施例的正视图；

图3为图1所示中半导体固定花篮一实施例的侧视图；