[实用新型]便于控制灌注液温度的等离子体手术系统

说明书

本实用新型提供一种便于控制灌注液温度的等离子体手术系统，包括系统主机以及与系统主机连接的手术刀具，还包括用于向手术刀具提供灌注液的供给管路，所述供给管路与所述手术刀具的灌注通道连通，所述供给管路上设置有用于对灌注液进行冷却或加热的温度调节装置。本实用新型，在灌注液供给管路上设置温度调节装置对灌注液进行加热或者冷却，灌注液经温度调节装置升温或降温后，送入手术刀具的灌注通道，达到对手术最有益的液体温度，利于患者的术后康复。

技术领域

本实用新型属于医疗器械领域，特别是涉及一种便于控制灌注液温度的等离子体手术系统。

背景技术

等离子体射频消融术以较低的温度来进行组织的切割与凝固，因作业温度相对较低(40℃～70℃左右)，故被称为低温等离子体手术。由于低温等离子体手术在相对较低的温度下工作，比传统使用的激光、电刀(可产生400℃～600℃)对周边组织的热损伤降到最小程度，患者的术后的恢复优于电凝切除。

虽然低温等离子并非单纯热作业工具，但其低温仍是相对电刀或者激光而言，如针对人体的生理温度，40℃～70℃仍属于高温，尤其是持续一定时间后，对组织仍有明显的损伤。

经研究表明在扁桃体、腺样体等离子体手术中采用低温盐水(5℃～8℃)灌注可以较好地提高手术效果：减少术中出血，缩短手术时间；减轻术后疼痛，缩短术后恢复时间；减少术后出血并发症发生率。

然而，常温生理盐水一般为23℃～25℃，即使手术前从冰柜拿出冷藏的生理盐水，往往随着手术的准备时间，温度也会逐渐上升，达不到需要的低温盐水温度(5℃～8℃)。

实用新型内容

鉴于以上所述现有技术的缺点，本实用新型的目的在于提供一种便于控制灌注液温度的等离子体手术系统，以调节灌注液的温度。

为实现上述目的及其他相关目的，本实用新型提供一种便于控制灌注液温度的等离子体手术系统，包括系统主机以及与系统主机连接的手术刀具，还包括用于向手术刀具提供灌注液的供给管路，所述供给管路与所述手术刀具的灌注通道连通，所述供给管路上设置有用于对灌注液进行冷却或加热的温度调节装置。

可选地，所述温度调节装置采用半导体制冷片制冷或加热。

可选地，所述温度调节装置包括换热座和半导体制冷片，所述换热座上设置有用于灌注液通过的流体通道，所述流体通道的入口连接至供给管路的第一段，所述流体通道的出口通过供给管路的第二段连接至手术刀具，所述半导体制冷片与换热座连接进行热交换。

可选地，所述流体通道在换热座上呈蛇型、迷宫型或者折流型布置。

可选地，所述等离子体手术系统还包括用于对灌注液进行流量调节的流量控制器，所述流量控制器设置在供给管路上，并位于所述温度调节装置的上游或下游，所述流量控制器与系统主机连接。

可选地，所述温度调节装置安装在流量控制器的外壳上，或者温度调节装置与流量控制器集成在同一壳体中。

可选地，所述温度传感器与控制模块电连接，所述控制模块与温度调节装置电连接，所述温度传感器用于检测灌注液的温度，所述控制模块用于通过控制温度调节装置来调节灌注液的温度。

可选地，所述温度传感器设置在温度调节装置上、温度调节装置至手术刀具的供给管路上或者手术刀具的灌注通道上。

可选地，所述控制模块设置在系统主机中或者温度调节装置中。

可选地，所述等离子体手术系统还包括与系统主机连接的脚踏控制器。

如上所述，本实用新型具有以下有益效果：该等离子体手术系统，在灌注液供给管路上设置温度调节装置对灌注液进行加热或者冷却，灌注液经温度调节装置升温或降温后，送入手术刀具的灌注通道，达到对手术最有益的液体温度，利于患者的术后康复。

附图说明