[实用新型]改善菜田土壤化学农药残留的装置

权利要求书

1.一种改善菜田土壤化学农药残留的装置，其特征在于，包括架体及设置在所述架体上的改善剂分布组件和旋耕组件，所述旋耕组件设置于所述改善剂分布组件后方；

所述改善剂分布组件包括料槽、设置在所述料槽底部的若干下料管及设置在所述下料管底端的导料板，所述导料板倾斜设置，所述导料板上位于每一个所述下料管的出口端处设置有扇形的分布区，相邻两个所述分布区的下端靠近。

2.如权利要求1所述的改善菜田土壤化学农药残留的装置，其特征在于，所述分布区上开设有若干呈放射状排列的分布槽。

3.如权利要求1所述的改善菜田土壤化学农药残留的装置，其特征在于，所述料槽的底部，沿长度方向设置有下料转轴，所述下料转轴上开设若干拨槽，所述下料转轴的一端连接有驱动组件。

4.如权利要求1所述的改善菜田土壤化学农药残留的装置，其特征在于，所述架体上还连接有挡风板，所述挡风板设置在所述导料板前端。

5.如权利要求4所述的改善菜田土壤化学农药残留的装置，其特征在于，所述挡风板包括前板及设置在所述前板两侧的侧板，所述侧板与所述前板围绕形成半包围结构的所述挡风板。

6.如权利要求5所述的改善菜田土壤化学农药残留的装置，其特征在于，所述前板上端铰接连接在所述架体上。

7.如权利要求5所述的改善菜田土壤化学农药残留的装置，其特征在于，所述前板呈圆弧形，所述导料板的下端靠近所述前板的内壁。

8.如权利要求1所述的改善菜田土壤化学农药残留的装置，其特征在于，所述旋耕组件包括从前向后依次设置的第一旋刀组及第二旋刀组。