[实用新型]一种半导体行业酸性废水的预处理装置

权利要求书

1.一种半导体行业酸性废水的预处理装置,包括顶板(1)、立柱(15)、外壳(3)、底座(20)、入料装置、搅拌装置，所述立柱(15)设置在顶板(1)与底座(20)之间，所述外壳(3)设在立柱(15)中部，所述外壳(3)一侧面设有入料装置，所述外壳(3)后面底部设有搅拌装置，其特征在于：所述顶板(1)下方设有伸缩杆(2)且伸缩杆(2)穿过外壳(3)顶端并连接外壳(3)内设压板(4)，所述压板(4)一侧垂直设有挡板(5)，所述挡板(5)下端设有开口(6)，所述外壳(3)对应挡板(5)一侧设有废液口(7)，

所述外壳(3)另一端设有入料装置，所述入料装置包括转轴(8)、活动板(9)，入料口(19)，所述转轴(8)上固定设有活动板(9)，所述入料口(19)开口向上设置；

所述搅拌装置包括电动机(16)、齿轮(17)、齿条(18)，搅拌板(10)，所述外壳(3)后方设有电动机(16)，所述电动机(16)通过齿轮(17)连接齿条(18)，所述外壳(3)下端设有搅拌板(10)，所述齿条(18)连接搅拌板(10)；

所述搅拌板(10)下方设有活动轴(11)，所述活动轴(11)上设有底板(12)，所述底板(12)下方设有边板(13)，所述边板(13)底部设有弹簧(14)连接至底座(20)。

2.根据权利要求1所述的一种半导体行业酸性废水的预处理装置，其特征在于：所述压板(4)通过伸缩杆(2)构成可升降结构，且压板(4)的右侧表面与废液口(7)的左侧表面之间紧密接触。

3.根据权利要求1所述的一种半导体行业酸性废水的预处理装置，其特征在于：所述底板(12)通过活动轴(11)构成可偏转结构，且弹簧(14)的中轴线垂直于底板(12)的下端表面。

4.根据权利要求1所述的一种半导体行业酸性废水的预处理装置，其特征在于：所述搅拌板(10)的中轴线与外壳(3)的中轴线之间相重合，且搅拌板(10)的内表面直径大于压板(4)的内表面直径。