[实用新型]非屏下大面积指纹模组及电子设备有效

专利信息
申请号: 202120780784.X 申请日: 2021-04-16
公开(公告)号: CN214410027U 公开(公告)日: 2021-10-15
发明(设计)人: 田永平 申请(专利权)人: 上海思立微电子科技有限公司
主分类号: G06K9/00 分类号: G06K9/00
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 陈烨;张印铎
地址: 201203 上海市浦*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 非屏下 大面积 指纹 模组 电子设备
【说明书】:

本申请公开一种非屏下大面积指纹模组及电子设备,包括:背光单元,所述背光单元的上表面设有面光源;第一准直结构,位于所述背光单元的上方;TFT传感器,位于所述第一准直结构的上方,所述TFT传感器包括通光孔和感光模块,所述通光孔位于所述感光模块的周侧,所述通光孔的宽度小于所述感光模块的宽度;所述通光孔用于供由所述面光源发出且经所述第一准直结构准直后的准直光通过;所述感光模块用于接收并感应目标信号光,所述目标信号光为所述准直光经所述TFT传感器上方的手指反射形成。该非屏下大面积指纹模组,不仅具有较大的识别面积,而且成本适中。

技术领域

本申请涉及指纹识别技术领域,尤其涉及一种非屏下大面积指纹模组及电子设备。

背景技术

本部分的描述仅提供与本申请公开相关的背景信息,而不构成现有技术。

在非手机领域,比如门禁、打卡、公安系统指纹录入等领域,目前主要以电容、光学镜头式指纹识别技术为主。而市场对双指、掌纹识别等需求激增,这就需要增大指纹模组的识别面积。光学镜头式指纹模组的结构笨重,体积大,不方便携带。电容指纹技术基于硅工艺,面积增大会使成本大幅提高。

应该注意,上面对技术背景的介绍只是为了方便对本申请的技术方案进行清楚、完整的说明,并方便本领域技术人员的理解而阐述的。不能仅仅因为这些方案在本申请的背景技术部分进行了阐述而认为上述技术方案为本领域技术人员所公知。

实用新型内容

鉴于现有技术的不足,本申请的目的是提供一种非屏下大面积指纹模组及电子设备,不仅具有较大的识别面积,而且成本适中。

为达到上述目的,本申请采用如下技术方案:

一种非屏下大面积指纹模组,包括:

背光单元,所述背光单元的上表面设有面光源;

第一准直结构,位于所述背光单元的上方;

TFT传感器,位于所述第一准直结构的上方,所述TFT传感器包括通光孔和感光模块,所述通光孔位于所述感光模块的周侧,所述通光孔的宽度小于所述感光模块的宽度;所述通光孔用于供由所述面光源发出且经所述第一准直结构准直后的准直光通过;所述感光模块用于接收并感应目标信号光,所述目标信号光为所述准直光经所述TFT传感器上方的手指反射形成。

作为一种优选的实施方式,所述通光孔的宽度范围为3微米~6.3微米。

作为一种优选的实施方式,所述TFT传感器包括位于所述第一准直结构的上方的基板、位于所述基板的上方的电路层;所述基板为透明基板,用于供所述准直光通过;所述电路层包括所述通光孔和感光模块。

作为一种优选的实施方式,所述TFT传感器上方设有保护层,所述保护层具有预定硬度。

作为一种优选的实施方式,所述保护层包括玻璃盖板。

作为一种优选的实施方式,所述保护层和所述TFT传感器之间设有第二准直结构。

作为一种优选的实施方式,所述面光源是可见光,所述保护层包括光学截止层,用于去除环境中的红外光。

作为一种优选的实施方式,所述面光源是红光,所述保护层包括光学截止层,用于去除环境中的红外光和红光以外的可见光。

作为一种优选的实施方式,所述第一准直结构和所述TFT传感器之间设有光学胶层,用于贴合所述第一准直结构和所述TFT传感器。

一种电子设备,包括如上任意一项实施方式所述的非屏下大面积指纹模组。

有益效果:本实施方式提供的非屏下大面积指纹模组,通过采用TFT传感器,在使指纹模组识别面积增大的同时,具有适中的成本。

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