[实用新型]雾化器及气溶胶生成装置

说明书

本申请公开了一种雾化器和气溶胶生成装置；其中，雾化器包括壳体，壳体内设置有储存液体基质的雾化腔；雾化组件，被构造成至少部分沿壳体纵向延伸；导液元件，围绕所述雾化组件设置，用于将所述储液腔内的液体基质传递给所述雾化组件；所述壳体内设置有至少一条气压平衡通道，所述气压平衡通道至少部分界定形成在所述导液元件与所述壳体之间；其中，所述气压平衡通道一端与所述储液腔连通，另一端与外界连通，提供空气进入所述储液腔的路径。以上雾化器，由于设置了气压平衡通道，可以改善导液元件由于压差问题，将过多的液体基质传递给雾化组件。

技术领域

本申请实施例涉及气溶胶生成装置领域，尤其涉及一种雾化器及气溶胶生成装置。

背景技术

气溶胶生成装置通常包含可雾化的液体基质，该液体基质被加热以使其发生雾化，从而产生可吸入的气溶胶。已知的气溶胶生成装置包括雾化器以及电源装置，雾化器包括油杯、导液元件，在使用中由导液元件从油杯中吸取液体基质后，再传递至加热元件进行雾化。

以上气溶胶生成装置，随着油杯内液体基质的消耗，油杯内空气腔体积占比增大，会导致油杯内的气压与雾化腔内的气压存在压差。由于导液元件至少部分与加热元件直接接触，当存在压差较大变化的影响时，导液元件导液的速率是不稳定且难以控制的。当导液速率过快，加热元件产生的热量单位时间内有限，积聚在导液元件上靠近加热元件附件的液体基质无法被及时雾化，就会产生液滴溅射的咕咕声，形成分散在气溶胶中的大颗粒液滴，影响用户的抽吸体验。

实用新型内容

为了解决现有技术中的气溶胶生成装置中的液体基质过量提供的问题，本申请实施例提供一种雾化器，包括壳体，所述壳体内设置有存储液体基质的储液腔；雾化组件，被构造成至少部分沿壳体纵向延伸，用于雾化液体基质形成气溶胶，所述雾化组件至少部分界定形成雾化腔；导液元件，围绕所述雾化组件设置，用于将所述储液腔内的液体基质传递给所述雾化组件；所述壳体内设置有至少一条气压平衡通道，所述气压平衡通道至少部分由所述导液元件界定形成；其中，所述气压平衡通道一端与所述储液腔连通，另一端与所述雾化腔连通，进而使所述储液腔内的气压与所述雾化腔内的气压基本相同。

优选地，上述技术方案中，所述导液元件沿所述雾化组件至少部分径向延伸至与所述壳体横向抵接。

优选地，上述技术方案中，所述气压平衡通道包括于所述壳体或所述导液元件上纵向延伸的至少一个凹槽或缺口。

优选地，上述技术方案中，还包括固定支架，所述气压平衡通道包括由所述固定支架至少部分界定形成的气流通道；所述气流通道与外界连通。

优选地，上述技术方案中，还包括至少一个供外部空气进入的进气口；所述气流通道与所述进气口连通，进而调节所述储液腔内的气压。

优选地，上述技术方案中，所述固定支架上设置有至少一个缓存腔；所述缓存腔定位在所述导液元件的一侧从而与所述储液腔隔离，用于缓存所述导液元件内的液体基质。

优选地，上述技术方案中，所述固定支架上设置有至少一个导流槽，所述导液元件内的液体基质可沿所述导流槽进入所述缓存腔。

优选地，上述技术方案中，所述固定支架包括支撑所述导液元件至少部分表面的第一支撑臂和第二支撑臂；所述缓存腔包括第一缓存腔和第二缓存腔；所述第一缓存腔和第二缓存腔由所述第二支撑臂相互隔开。

优选地，上述技术方案中，所述第二支撑臂界定形成容置腔，所述容置腔可固定容纳所述雾化组件的至少一部分。

优选地，上述技术方案中，所述雾化组件包括管状体和收容在所述管状体内的多孔体和加热元件；所述管状体与所述导液元件接触的表面上设置有至少一个导液孔；所述导液元件覆盖所述导液孔。

优选地，上述技术方案中，所述导液元件与所述多孔体的延伸方向基本垂直。