[实用新型]一种便携式光罩转运箱有效
申请号: | 202120771969.4 | 申请日: | 2021-04-15 |
公开(公告)号: | CN214730760U | 公开(公告)日: | 2021-11-16 |
发明(设计)人: | 郑永庆;张衡;陈宏渊 | 申请(专利权)人: | 艾斯尔光电(南通)有限公司 |
主分类号: | B65D25/04 | 分类号: | B65D25/04;B65D51/24;B65D81/05;B65D25/26;B65D55/02 |
代理公司: | 北京权智天下知识产权代理事务所(普通合伙) 11638 | 代理人: | 王新爱 |
地址: | 226000 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 便携式 转运 | ||
本实用新型公开了一种便携式光罩转运箱,包括箱体和箱盖,箱盖安装于箱体上端口,箱体上端部两侧分别安装金属支撑板,箱盖两侧分别安装磁铁,箱盖内侧还安装缓震垫,箱体内腔等间距安装多块分隔板,相邻分隔板之间放置光罩,本实用新型结构设计新颖,使用方便,能够防止光罩在转运过程中出现碰擦现象,提高了光罩转运效率。
技术领域
本实用新型涉及光罩转运技术领域,具体为一种便携式光罩转运箱。
背景技术
光罩(英文:Reticle, Mask):在制作IC的过程中,利用光蚀刻技术,在半导体上形成图型,为将图型复制於晶圆上,必须透过光罩作用的原理,类似于冲洗照片时,利用底片将影像复制至相片上。业内又称光掩模版、掩膜版,该产品是由石英玻璃作为衬底,在其上面镀上一层金属铬和感光胶,成为一种感光材料,把已设计好的电路图形通过电子激光设备曝光在感光胶上,被曝光的区域会被显影出来,在金属铬上形成电路图形,成为类似曝光后的底片的光掩模版,然后应用于对集成电路进行投影定位,通过集成电路光刻机对所投影的电路进行光蚀刻,其生产加工工序为:曝光,显影,去感光胶,最后应用于光蚀刻。
光罩在转运过程中需要用到转运箱,现有的转运箱结构单一,无法起到保护作用,因此,有必要进行改进。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种便携式光罩转运箱,以解决上述背景技术中提出的问题。
为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:一种便携式光罩转运箱, 包括箱体和箱盖,所述箱盖安装于箱体上端口,所述箱体上端部两侧分别安装金属支撑板,所述箱盖两侧分别安装磁铁,所述箱盖内侧还安装缓震垫,所述箱体内腔等间距安装多块分隔板,相邻所述分隔板之间放置光罩。
优选的,本申请提供的一种便携式光罩转运箱,其中,所述缓震垫包括支撑板和橡胶垫,所述橡胶垫包覆于支撑板外表面,所述支撑板内表面与箱盖内侧壁固定连接,所述橡胶垫呈波浪形结构。
优选的,本申请提供的一种便携式光罩转运箱,其中,还包括抗压板,所述抗压板分别安装于箱盖上端面、箱体外侧壁,所述抗压板包括第一金属板、第二金属板和瓦楞板,所述瓦楞板安装于第一金属板和第二金属板之间。
优选的,本申请提供的一种便携式光罩转运箱,其中,所述分隔板采用PVC板制成,所述分隔板两侧分别包覆硅胶层。
优选的,本申请提供的一种便携式光罩转运箱,其中,所述箱盖上端面中心还安装提手。
与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:本实用新型结构设计新颖,使用方便,能够防止光罩在转运过程中出现碰擦现象,提高了光罩转运效率;其中,采用的缓震垫整体缓冲性能强,箱盖与箱体合上后,缓震垫与光罩上端面接触,能够防止光罩出现震动现象,起到保护光罩的作用;此外,设置的抗压板整体具有良好的抗压性能,能够防止箱体受到撞击后出现变形现象。
附图说明
图1为本实用新型结构示意图;
图2为本实用新型缓震垫结构示意图;
图3为本实用新型抗压板剖视图;
图中:箱体1、箱盖2、金属支撑板3、磁铁4、缓震垫5、分隔板6、光罩7、支撑板8、橡胶垫9、抗压板10、第一金属板11、第二金属板12、瓦楞板13、硅胶层14、提手15。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。
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