[实用新型]一种活动平台及化学气相沉积装置有效
申请号: | 202120740590.7 | 申请日: | 2021-04-12 |
公开(公告)号: | CN215209617U | 公开(公告)日: | 2021-12-17 |
发明(设计)人: | 时玉萌 | 申请(专利权)人: | 深圳大学 |
主分类号: | C23C16/458 | 分类号: | C23C16/458 |
代理公司: | 深圳中一联合知识产权代理有限公司 44414 | 代理人: | 张全文 |
地址: | 518000 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 活动 平台 化学 沉积 装置 | ||
本申请提供一种活动平台及化学气相沉积装置,涉及半导体领域,为解决现有的化学气相沉积装置沉积出的薄膜往往质量不高的问题而发明,该活动平台应用于化学气相沉积装置,包括调节装置和沉积台,所述调节装置固定在所述化学气相沉积装置的反应室的顶部,所述沉积台连接在所述调节装置上,所述调节装置用于调节所述沉积台在所述反应室内的位置。该活动平台利用调节装置可以灵活的调节沉积台在化学气相沉积装置的反应室内的位置,以适应不同的薄膜材料在沉积台上的不同的生长特性,进而可以沉积出均一性更好,质量更高的薄膜。
技术领域
本申请涉及半导体领域,尤其涉及一种活动平台及化学沉积气相装置。
背景技术
薄膜材料的制备是一个将两种或两种以上的气态原材料导入一个反应室内,以使上述气态原材料在加热衬底上发生化学反应而沉积出一种固态薄膜的过程。薄膜材料的制备常常采用化学气相沉积装置,但是现有的化学气相沉积装置沉积出的薄膜往往质量不高。
发明内容
有鉴于此,本申请提供一种活动平台及化学沉积气相装置,解决了现有的化学气相沉积装置沉积出的薄膜往往质量不高的问题。
为了实现上述目的,第一方面,本申请提供了一种活动平台,该活动平台应用于化学气相沉积装置,包括调节装置和沉积台,所述调节装置固定在所述化学气相沉积装置的反应室的顶部,所述沉积台连接在所述调节装置上,所述调节装置用于调节所述沉积台在所述反应室内的位置。
本申请提供一种活动平台,该活动平台利用调节装置可以灵活的调节沉积台在化学气相沉积装置的反应室内的位置,以适应不同的薄膜材料在沉积台上的不同的生长特性,进而可以沉积出薄厚均匀,质量更高的薄膜。
可选的,所述调节装置包括固定机构和平移机构,所述固定机构连接在所述反应室的顶部,所述平移机构连接在所述固定机构上,所述平移机构用于驱动所述沉积台水平移动。
升降手柄的设置可以便于操作人员利用升降手柄手动调节升降底板的升降高度。
可选的,所述平移机构包括平移体、平移手柄和用于连接所述平移手柄与所述平移体的第二驱动件,所述第二驱动件贯穿所述反应室的顶部,且连接有所述平移手柄;所述平移体通过旋转连接板连接所述沉积台。
平移手柄的设置可以便于操作人员利用平移手柄手动调节平移体的水平距离。
可选的,所述第二驱动件包括蜗杆、蜗轮和平移齿条;所述蜗杆的一端连接所述平移手柄,另一端通过所述蜗轮卡接所述平移齿条;所述平移齿条安装在与所述蜗杆对应的所述平移体的一端。
蜗轮蜗杆的结构具有传动比大、结构紧凑和承载能力大的特点,且蜗轮蜗杆在传动时啮合的动作是连续的,因此采用蜗轮、蜗杆及齿条这样的结构设计可以使平移板在水平移动过程种更加平稳,且不会产生较大噪声。
可选的,所述调节装置还包括角度调节机构,所述角度调节机构的一端连接所述固定机构,另一端连接所述沉积台以使所述沉积台相对于所述角度调节机构水平移动。
可选的,所述角度调节机构包括角度调节手柄和与所述角度调节手柄连接的第三驱动件,所述第三驱动件贯穿所述反应室的顶部,且连接有所述角度调节手柄。
角度调节手柄的设置可以便于操作人员利用角度调节手柄手动调节角度调节机构的高度以驱动沉积台相对于角度调节机构发生水平移动。
可选的,所述第三驱动件包括滑杠、丝杠、螺母和角度调节板;
所述丝杠套设在带有滑键的所述滑杠上,所述丝杠的外螺纹与所述螺母的内螺纹卡接,所述螺母固定连接所述角度调节板;
所述角度调节板上设置有用于连接所述沉积台的滑槽,所述沉积台利用随动轴卡接在所述滑槽内。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳大学,未经深圳大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202120740590.7/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一体化催化多脱布袋除尘器
- 下一篇:一种树木生根水杀菌水喷洒装置
- 同类专利
- 专利分类
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的