[实用新型]一种多次金属化或气氛的烧结炉结构有效
| 申请号: | 202120723501.8 | 申请日: | 2021-04-09 |
| 公开(公告)号: | CN215033601U | 公开(公告)日: | 2021-12-07 |
| 发明(设计)人: | 唐鹿 | 申请(专利权)人: | 江西科技学院 |
| 主分类号: | B22F3/10 | 分类号: | B22F3/10;C21D1/62;C21D9/00 |
| 代理公司: | 北京棘龙知识产权代理有限公司 11740 | 代理人: | 李改平 |
| 地址: | 330000*** | 国省代码: | 江西;36 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 多次 金属化 气氛 烧结炉 结构 | ||
本实用新型公开了一种多次金属化或气氛的烧结炉结构,烧结炉中包括:密封罩体、若干用于加热样品的加热室,以及若干用于淬火或涂膏样品的处理室;烧结炉为隧道式结构,加热室和处理室间隔循环设置并连通,样品在烧结炉中反复进行金属化烧结、淬火或金属化烧结、涂膏;加热室包括:用于放置样品的进料门、设置在加热室中的烧结平台,内嵌于烧结平台中的加热元件,以及连通相邻处理室的腔室门;每个加热室的温度相同或不同;每个处理室的外表面还设置有侧门;样品经过一个加热室和一个处理室并形成有一个烧结循环周期;样品在烧结炉中曲线旋转变向运动、直线运动。该金属化烧结炉可以实现多次连续的金属化烧结或多次连续的烧结、淬火工艺。
技术领域
本实用新型涉及材料热处理领域,尤其涉及一种多次金属化或气氛的烧结炉结构。
背景技术
在材料热处理领域,材料的金属化和气相淬火是提高材料性能的重要方法。为保证样品的致密度或优异的机械性能,还可以采用多次金属化的烧结方式,样品在加热室中烧结完成一级金属化烧结,转移至处理室涂一遍膏剂至尺寸,完成二级金属化烧结,二级以上亦然。多次烧结对于涂膏的厚度有精确把控,多次烧结可以精确控制到样品金属化层的尺寸精度。
此外,通过在空气气氛下淬火可以提高不仅可以提高介电陶瓷的介电常数,同时也可以有效降低介电损耗。专利201711259380.0通过对材料在空气下淬火而提高材料的性能。
但是现有技术中无法通过一种烧结炉设备对样品进行金属化的连续烧结,且无法通过一种烧结炉设备实现样品的连续气氛烧结。有鉴于此,有必要对现有技术中烧结炉予以改进。
发明内容
本实用新型克服了现有技术的不足,提供一种多次金属化或气氛的烧结炉结构。
为达到上述目的,本实用新型采用的技术方案为:一种多次金属化或气氛的烧结炉结构,其特征在于,所述烧结炉中包括:密封罩体、若干用于加热样品的加热室,以及若干用于淬火或涂膏所述样品的处理室;所述加热室设置在密封罩体内并形成密闭空间;
所述烧结炉为隧道式结构,所述加热室和所述处理室间隔循环设置并连通,所述样品在所述烧结炉中反复进行金属化烧结、淬火或金属化烧结、涂膏;
所述加热室包括:用于放置所述样品的进料门、设置在所述加热室中的烧结平台,内嵌于所述烧结平台中的加热元件,以及连通相邻所述处理室的腔室门;
每个所述加热室的温度相同或不同;每个所述处理室的外表面还设置有侧门;
所述样品经过一个所述加热室和一个所述处理室并形成有一个烧结循环周期;所述样品在所述烧结炉中曲线旋转变向运动、直线运动。
本实用新型一个较佳实施例中,所述烧结炉通过滑轨连通所有所述加热室和所述处理室。
本实用新型一个较佳实施例中,所述烧结平台设置在所述滑轨的上方,所述滑轨带动所述烧结平台沿所述烧结炉的轨道运动。
本实用新型一个较佳实施例中,所述处理室对所述样品进行淬火处理时,所述处理室中通入有特殊气氛和一定温度。
本实用新型一个较佳实施例中,所述烧结炉为直线隧道结构或环形隧道结构。
本实用新型一个较佳实施例中,所述烧结炉为螺旋隧道结构。
本实用新型一个较佳实施例中,所述螺旋隧道结构的所述烧结炉,在螺旋轨道较长部位设置有缓冲通道,所述缓冲通道为所述样品快速冷却,所述螺旋轨道交叉部位间隔设置有所述处理室和所述加热室。
本实用新型一个较佳实施例中,所述密封罩体的侧面还设置有进气口和排气口,所述进气口用于通入气体,所述排气口用于排气或抽真空的接口。
本实用新型解决了背景技术中存在的缺陷,本实用新型具备以下有益效果:
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于江西科技学院,未经江西科技学院许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202120723501.8/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种防压疮裤子
- 下一篇:一种布匹染色过程中布料预先梳理装置





