[实用新型]面射型激光装置

权利要求书

1.一种面射型激光装置，其特征在于，所述面射型激光装置包括：

一磊晶叠层体，其包括一基材、一第一反射镜层、一主动层以及一第二反射镜层，其中，所述第一反射镜层，所述主动层以及所述第二反射镜层位于所述基材上，且所述主动层位于所述第一反射镜层与所述第二反射镜层之间，以产生一激光光束；

一第一电极层，其位于所述磊晶叠层体上；

一第二电极层，其位于所述第二反射镜层上，其中，所述第二电极层与所述第一电极层之间定义出一经过所述主动层的电流路径，且所述第二电极层具有一用于定义出一发光区的孔径；以及

一利用局部退火处理而形成的第一界面金属化合物层，所述第一界面金属化合物层位于所述第一电极层与所述磊晶叠层体之间。

2.如权利要求1所述的面射型激光装置，其特征在于，所述第一界面金属化合物层位于所述基材与所述第一电极层之间，所述第一电极层包括与所述第一界面金属化合物层连接的一第一金属层、一第二金属层以及一第三金属层，且所述第二金属层位于所述第一金属层与第三金属层之间。

3.如权利要求2所述的面射型激光装置，其特征在于，所述第一界面金属化合物层包含至少两种原子，其中一种所述原子与所述第一金属层的原子的种类相同，另一种所述原子与所述基材的原子的种类相同。

4.如权利要求1所述的面射型激光装置，其特征在于，所述第一电极层的厚度是介于至且所述第一电极层的表面粗糙度是介于0.2μm至0.5μm。

5.如权利要求1所述的面射型激光装置，其特征在于，所述第一界面金属化合物层的厚度是介于至

6.如权利要求1所述的面射型激光装置，其特征在于，所述第二电极层包括:一第二导电层以及利用局部退火处理而形成的一第二界面金属化合物层，所述第二界面金属化合物层是位于所述第二导电层与所述第二反射镜层之间。

7.如权利要求1所述的面射型激光装置，其特征在于，所述第二反射镜层与所述主动层的截面宽度小于所述第一反射镜层的截面宽度而共同形成一平台部，且所述第一反射镜层与所述基材共同形成一基底部。

8.如权利要求7所述的面射型激光装置，其特征在于，所述第一电极层与所述第二电极层都是位于所述基材的相同侧，所述第一界面金属化合物层是位于所述第一电极层与所述第一反射镜层之间，并环绕所述平台部而呈环状。

9.如权利要求1所述的面射型激光装置，其特征在于，所述磊晶叠层体具有一氧化沟槽，所述氧化沟槽由所述第二反射镜层朝所述基材延伸。

10.如权利要求9所述的面射型激光装置，其特征在于，所述磊晶叠层体还包括一电流局限层，所述电流局限层由所述氧化沟槽的一侧壁延伸至所述第二电极层下方，并定义出对应于所述发光区的一局限孔。

11.如权利要求9所述的面射型激光装置，其特征在于，所述面射型激光装置还进一步包括一平坦层，所述平坦层填入所述氧化沟槽内。

12.一种面射型激光装置，其包括一磊晶叠层体、一第一电极层与一第二电极层，所述第一电极层与所述第二电极层连接于所述磊晶叠层体，其特征在于，所述面射型激光装置还包括至少一用局部退火处理而形成的一界面金属化合物层，其位于所述第一电极层与所述磊晶叠层体之间或者位于所述第二电极层与所述磊晶叠层体之间，且所述界面金属化合物层连接于所述磊晶叠层体。

13.如权利要求12所述的面射型激光装置，其特征在于，所述界面金属化合物层位于所述第一电极层与所述磊晶叠层体之间。

14.如权利要求12所述的面射型激光装置，其特征在于，所述第一电极层的厚度是介于至且所述第一电极层的表面粗糙度是介于0.2μm至0.5μm。

15.如权利要求12所述的面射型激光装置，其特征在于，所述界面金属化合物层的厚度是介于至