[实用新型]一种方便清理的旋涂设备

说明书

本实用新型公开了一种方便清理的旋涂设备，所述旋转单元的外侧安装有可拆卸的旋涂腔体单元，且旋转单元固定安装在旋涂腔体单元的内部底端，所述旋转单元和旋涂腔体单元的下端固定安装有排放单元。旋涂腔体单元能有效回收旋涂时产生的废液，旋涂腔体可以从设备上拆下，方便彻底的清理旋涂腔，设置防背溅盘防止旋涂时胶体溅射在基片背面，污染基片，优化了旋涂设备的排气系统，排气系统在旋涂腔下方，废气向下吸收，避免人工点胶的时候吸入有毒气体。

技术领域

本实用新型涉及旋涂设备技术领域，具体为一种方便清理的旋涂设备。

背景技术

在半导体制造及纳米压印领域，首先要在基片表面涂覆一层胶体成膜，然后再进行后续的光刻或者压印工艺，已形成预定的图形层。目前常用的旋涂方式有静态点胶旋涂，动态点胶旋涂。无论是静态点胶旋涂或者动态点胶旋涂，都会有多余的胶液从旋转的基片上甩出。

甩出的胶体残留在旋涂设备的旋涂腔内，粘度大，不易清理。胶体会挥发出许多对人体有害的气体，影响人的身体健康。一台旋涂设备可能旋涂多种胶体，不同胶体可能会在旋涂腔内交叉反应。有效及时的回收清理残留在旋涂腔内的胶体，是在设计旋涂设备时需要解决的问题。

现有的旋涂设备大多设置了旋涂腔体用于回收废液，但是其旋涂腔一般是固定在设备上的，清理不方便。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种方便清理的旋涂设备，以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种方便清理的旋涂设备，包括旋转单元，所述旋转单元的外侧安装有可拆卸的旋涂腔体单元，且旋转单元固定安装在旋涂腔体单元的内部底端，所述旋转单元和旋涂腔体单元的下端固定安装有排放单元。

优选的，所述旋转单元包括吸盘、基片定位杆、真空槽、真空孔、定位销槽、支撑杆、定位销、旋转电机和真空泵，所述吸盘上表面边缘处设有基片定位杆，所述吸盘上表面中心处设有真空槽和真空孔，所述吸盘的下端设有定位销槽，所述真空孔与支撑杆连通，所述定位销槽的内部配合安装有定位销，所述支撑杆的下端固定连接有旋转电机，所述旋转电机的下端固定连接有真空泵。

优选的，所述旋涂腔体单元包括盖板、把手、旋转块、密封条、盆体固定圈、盆体、集液槽、防背溅盘、废液口和支撑块，所述盖板的上表面设有把手，所述盖板的一侧设有旋转块，所述盖板下表面设有密封条，所述密封条的下端紧密贴合有盆体固定圈，所述盆体固定圈的外侧固定安装有盆体，所述盆体中心处呈圆锥状，且支撑杆可穿过盆体中间区域，所述旋转块直接固定在设备壳体上，所述盆体的下方设有一圈集液槽，所述盆体中心圆锥状区域内固定安装有防背溅盘，且位于吸盘的下方，所述集液槽的底部废液口，所述盆体与废液口相对的另一边由支撑块支撑。

优选的，所述排放单元包括废液收集管、一级过滤阀、废气管道、排风扇、二级过滤阀、废液容器和废液排放阀，所述废液口的下端固定连接有废液收集管，且废液收集管呈Z型，所述废液收集管的中间部分左端固定连接有一级过滤阀，所述一级过滤阀的左端固定连接有废气管道，所述废气管道的左端固定连接有排风扇，所述排风扇的左端固定连接有二级过滤阀，所述废液收集管的底端固定安装有废液容器，所述废液容器的底端固定安装有废液排放阀。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：该方便清理的旋涂设备设计合理，旋涂腔体单元能有效回收旋涂时产生的废液，旋涂腔体可以从设备上拆下，方便彻底的清理旋涂腔，设置防背溅盘防止旋涂时胶体溅射在基片背面，污染基片，优化了旋涂设备的排气系统，排气系统在旋涂腔下方，废气向下吸收，避免人工点胶的时候吸入有毒气体，解决了无论是静态点胶旋涂或者动态点胶旋涂，都会有多余的胶液从旋转的基片上甩出，甩出的胶体残留在旋涂设备的旋涂腔内，粘度大，不易清理。胶体会挥发出许多对人体有害的气体，影响人的身体健康，旋涂腔一般是固定在设备上的，清理不方便的问题。

附图说明

图1本实用新型设备的结构示意图；