[实用新型]用于淋釉系统的回收装置有效

专利信息
申请号: 202120582560.8 申请日: 2021-03-22
公开(公告)号: CN214772827U 公开(公告)日: 2021-11-19
发明(设计)人: 梁桐灿;曾凡平;丁英美;梁耀龙;宋树刚;冯勇;刘海光;蔡三良 申请(专利权)人: 广东宏威陶瓷实业有限公司;广东宏陶陶瓷有限公司;广东宏宇新型材料有限公司;广东宏海陶瓷实业发展有限公司
主分类号: B28B11/04 分类号: B28B11/04
代理公司: 佛山市恒瑞知识产权代理事务所(普通合伙) 44688 代理人: 廖花妹
地址: 511500 广东省*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 用于 系统 回收 装置
【说明书】:

实用新型涉及瓷砖生产技术领域,具体为用于淋釉系统的回收装置,包括接釉槽、回流槽和釉料桶,所述接釉槽安装在生产线支架上、且位于淋釉系统的淋罩的正下方,所述接釉槽在其底面开设有下料孔,所述回流槽位于所述下料孔的正下方、且与所述釉料桶连通。本实用新型用于淋釉系统的回收装置,在接釉槽上开设下料孔,并且在下料孔的正下方设置与釉料桶连通的回料槽,使釉料不会沉淀、堆积在接釉槽上,釉料的整个回流过程顺畅,无需工作人员定期清理接釉槽。

技术领域

本实用新型涉及瓷砖生产技术领域,具体为用于淋釉系统的回收装置。

背景技术

淋釉系统,是用于在瓷砖的表面喷淋釉料,以使瓷砖上色。淋釉系统在对瓷砖进行淋釉的时候,釉料涂抹在瓷砖后会有多余的釉料往瓷砖的正下方流,此时一般会设置回收系统来回收釉料。现有的回收系统,仅设置有用于承接淋完瓷砖之后剩余的釉料的接釉槽,接釉槽通过管道与釉料桶连通;在这过程中,釉料容易在接釉槽上沉淀、堆积在接釉槽上,因此造成釉料回流不顺畅,需要人工定期清理。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提出用于淋釉系统的回收装置,旨在解决现有技术中釉料容易沉淀、堆积在接釉槽上,造成釉料回流不顺畅的技术问题。

为实现上述目的,本实用新型提出用于淋釉系统的回收装置,包括接釉槽、回流槽和釉料桶,所述接釉槽安装在生产线支架上、且位于淋釉系统的淋罩的正下方,所述接釉槽在其底面开设有下料孔,所述回流槽位于所述下料孔的正下方、且与所述釉料桶连通。

优选地,所述接釉槽包括倾斜底板、第一倾斜侧板、第二倾斜侧板和竖板;所述第一倾斜侧板和所述第二倾斜侧板相对设置在所述倾斜底板的两侧;所述竖板的左右两端分别与所述第一倾斜侧板和所述第二倾斜侧板连接,所述竖板的下端与所述倾斜底板的一端连接;所述下料孔开设在所述倾斜底板上。

优选地,多个所述下料孔沿所述竖板的长度方向均匀分布在所述倾斜底板上。

优选地,所述倾斜底板的倾斜角度α为10°~25°。

优选地,所述下料孔朝向所述回流槽的一侧连通设置有下料导管。

优选地,所述下料孔的直径为5mm~15mm。

优选地,所述回流槽为开口朝上的弧形件。

优选地,所述回流槽从所述接釉槽到所述釉料桶往下倾斜设置。

本实用新型用于淋釉系统的回收装置,至少具有以下有益效果:在接釉槽上开设下料孔,并且在下料孔的正下方设置与釉料桶连通的回料槽,使接釉槽上承接的釉料能及时通过下料孔流至回流槽中,然后通过回流槽流向釉料桶;因此釉料不会沉淀、堆积在接釉槽上,釉料的整个回流过程顺畅,无需工作人员定期清理接釉槽。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图示出的结构获得其他的附图。

图1为本实用新型回收装置的主视结构示意图;

图2为本实用新型回收装置的侧视结构示意图;

图3为本实用新型接釉槽的结构示意图;

图4为本实用新型接釉槽的侧视结构示意图;

图5为本实用新型回流槽的结构示意图。

附图中:1-接釉槽、11-下料孔、12-倾斜底板、13-第一倾斜侧板、14-第二倾斜侧板、15-竖板、2-回流槽、3-釉料桶、4-下料导管、5-生产线支架、6-淋罩、7-输送机构。

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