[实用新型]一种真空镀膜机用自公转伞架

说明书

本申请涉及电子产品表面处理领域，尤其是涉及一种真空镀膜机用自公转伞架,其包括固定架、公转架以及滚筒，固定架包括固定盘、固定套筒以及固定锥齿轮，公转盘受驱动电机驱使转动，公转盘通过外连接杆与支撑滚圈固定连接，此时支撑滚圈与公转盘一起围绕公转盘的中心轴线进行旋转运动。滚筒的第一滚动轴和第二滚动轴分别架在第一轴托和第二轴托上转动，且第一滚动轴上的自转锥齿轮与固定架上的固定锥齿轮啮合，从而固定在滚筒上的镀件卡座带动待镀件围绕输出轴的中心轴线进行公转的同时，镀件卡座带动待镀件围绕滚筒的中心轴线进行自转，从而使得固定在滚筒上的各个待镀件镀膜效果均匀一致。

技术领域

本申请涉及电子产品表面处理领域，尤其是涉及一种真空镀膜机用自公转伞架。

背景技术

真空镀主要包括真空蒸镀、溅射镀和离子镀等几种类型。它们的加工条件要求较高，加工环境一般是在真空条件下，通过蒸馏或溅射等方式在塑件表面沉积各种金属和非金属薄膜，通过这样的加工方式，可以得到非常薄的表面镀层，同时具有速度快、附着力好以及加工工时短等优点。

真空蒸镀作为较为常用的一种真空镀的方法，其加工原理是在高真空下，通过金属细丝的蒸发和凝结，使金属薄层附著在塑胶表面。相关技术手段对于待镀件的固定方式，通常采用固定支撑架的方式将待镀件安装于真空镀膜机蒸镀腔内的悬挂固定板上，通过驱动电机驱使固定支撑架转动，蒸镀腔底端的蒸镀口通过金属细丝的蒸发，从而在待镀件表面形成一层电镀薄膜。

申请人认为，蒸镀腔的底端的蒸镀口距离支撑架各个位置的距离不同，待镀件朝向蒸镀口的方向也不相同，导致镀膜的过程中，各个待镀件的镀膜效果不均匀。

实用新型内容

为了改善镀膜的过程中，各个待镀件的镀膜效果不均匀的问题，本申请提供一种真空镀膜机用自公转伞架。

本申请提供的一种真空镀膜机用自公转伞架，采用如下的技术方案：

一种真空镀膜机用自公转伞架，包括固定于悬挂固定板上的固定架、围绕固定架进行转动的公转架以及多个用于安装待镀件的滚筒，滚筒安装于固定架与固定架上；固定架包括固定盘、固定套筒以及固定锥齿轮，固定盘固定安装于悬挂固定板上，固定套筒的一端固定连接于固定盘上，固定套筒的另一端与固定锥齿轮固定连接；公转架包括多根外连接杆、公转盘以及支撑滚圈，公转盘受驱动电机驱使转动，外连接杆将公转盘与支撑滚圈固定连接；公转盘上设置有多个第一轴托，支撑滚圈上设置有多个第二轴托，第一轴托与第二轴托数量相同且一一对应；滚筒的两端分别固定设置有第一滚动轴和第二滚动轴，第一滚动轴与第一轴托转动配合，第二滚动轴与第二轴托转动配合；第一滚动轴远离第二滚动轴的一端固定设置有自转锥齿轮，自转锥齿轮与固定锥齿轮啮合转动；滚筒上设置有多个用于固定待镀件的镀件卡座，镀件卡座与滚筒可拆卸连接。

通过采用上述技术方案，固定盘固定在镀膜机的悬挂固定板上，驱动电机驱动公转架上的公转盘转动，公转盘通过外连接杆与支撑滚圈固定连接，此时支撑滚圈与公转盘一起围绕公转盘的中心轴线进行旋转运动。滚筒的第一滚动轴和第二滚动轴分别架在第一轴托和第二轴托上转动，且第一滚动轴上的自转锥齿轮与固定架上的固定锥齿轮啮合。由于固定锥齿轮固定不动，而滚筒上的自转锥齿轮与固定锥齿轮啮合并围绕固定锥齿轮转动，从而使得滚筒能够在固定架和公转架上围绕滚筒的中心轴线发生自转，从而固定在滚筒上的镀件卡座带动待镀件围绕公转盘的中心轴线进行公转的同时，镀件卡座带动待镀件围绕滚筒的中心轴线进行自转，从而使得固定在滚筒上的各个待镀件镀膜效果均匀一致。

可选的，第一滚动轴上设置有第一轴承，第二滚动轴上设置有第二轴承，第一轴承具有第一外轴圈和第一内轴圈，第二轴承具有第二外轴圈和第二内轴圈，第一内轴圈与第一滚动轴同轴固定连接，第一外轴圈与第一轴托抵接；第二内轴圈与第二滚动轴同轴固定连接，第二外轴圈与第二轴托抵接。

通过采用上述技术方案，第一轴承能够设置在第一滚动轴和第一轴托之间起到减小转动阻力的作用，第二轴承也是同理，从而使得滚筒的自转更加的灵活稳定，减小驱动电机的转动负荷，节约能源。