[实用新型]一种硅片清洗设备

权利要求书

1.一种硅片清洗设备，其特征在于：包括清洗箱(1)，所述清洗箱(1)内部设有承托网(2)，所述承托网(2)上放置有硅片本体(3)，所述承托网(2)上下两侧分布设有喷淋管(4)，所述清洗箱(1)外部一侧设有清洗液桶(5)和新鲜水桶(6)，所述清洗液桶(5)右侧下端通过清洗液管(7)连接喷淋泵入口，所述喷淋泵出口连接设有加热装置(8)，所述加热装置(8)内部设有蛇形盘绕的加热管(9)，所述加热管(9)外部绕设有电热丝(10)，所述加热装置(8)出口连接两侧喷淋管(4)；所述清洗箱(1)上侧一端设有抽风机(11)，所述抽风机(11)通过风管(12)连接冷却管(13)，所述冷却管(13)外部设有冷却套管(14)，所述冷却套管(14)下端连接设有回收桶(15)，所述冷却管(13)于冷却套管(14)下方一侧连接设有放空管(16)。

2.根据权利要求1所述的一种硅片清洗设备，其特征在于：所述清洗箱(1)一侧外壁铰接设有箱门，所述清洗箱(1)底部设有斜坡(17)。

3.根据权利要求2所述的一种硅片清洗设备，其特征在于：所述斜坡(17)低点一端通过回收管(18)分别连接至清洗液桶(5)和新鲜水桶(6)。

4.根据权利要求1所述的一种硅片清洗设备，其特征在于：所述新鲜水桶(6)出口端通过水管(19)连接至喷淋泵入口。

5.根据权利要求1所述的一种硅片清洗设备，其特征在于：贯穿所述承托网(2)两侧分别螺纹连接设有驱动螺杆(20)，两侧所述驱动螺杆(20)相对于清洗箱(1)转动连接，所述清洗箱(1)顶部设有驱动装置，所述驱动装置通过驱动螺杆(20)使承托网(2)上下运动。

6.根据权利要求1所述的一种硅片清洗设备，其特征在于：所述喷淋管(4)上均匀分布设有雾化喷头(21)。