[实用新型]一种富钙磷离子的牙科植入体

权利要求书

1.一种富钙磷离子的牙科植入体，其特征在于：包括牙齿嵌入槽、牙齿嵌入卡件、钙磷离子层、种植本体和金属植骨槽，所述牙齿嵌入槽设于种植本体上端，所述牙齿嵌入卡件设于种植本体内，所述牙齿嵌入卡件设于牙齿嵌入槽内，所述金属植骨槽设于种植本体下端，所述钙磷离子层设于种植本体表面，所述金属植骨槽内设有金属植骨，所述金属植骨内含有镁离子。

2.根据权利要求1所述的一种富钙磷离子的牙科植入体，其特征在于：所述牙齿嵌入卡件包括通孔、固定件、弹簧、限位杆、滑槽、卡槽和磁块卡槽，所述通孔设于钙磷离子层上，所述卡槽设于种植本体上，所述卡槽与牙齿嵌入槽相连，所述滑槽设于种植本体上，所述滑槽贯穿种植本体与通孔和卡槽相连，所述磁块卡槽设于滑槽内且靠近通孔，所述弹簧设于卡槽内，所述固定件设于弹簧上，所述固定件设于牙齿嵌入槽内，所述限位杆一端与固定件相连，所述限位杆另一端可滑动设于滑槽内。

3.根据权利要求2所述的一种富钙磷离子的牙科植入体，其特征在于：所述限位杆为金属材质。

4.根据权利要求3所述的一种富钙磷离子的牙科植入体，其特征在于：所述固定件竖直剖面为梯形结构设置。