[实用新型]一种真空吸附工作台有效

专利信息
申请号: 202120504389.9 申请日: 2021-03-09
公开(公告)号: CN215145865U 公开(公告)日: 2021-12-14
发明(设计)人: 林潇俊;陈国栋;吕洪杰;杨朝辉 申请(专利权)人: 深圳市大族数控科技股份有限公司
主分类号: B23K26/70 分类号: B23K26/70
代理公司: 深圳众鼎专利商标代理事务所(普通合伙) 44325 代理人: 姚章国
地址: 518101 广东省深圳市宝安区沙井街道新沙路*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 真空 吸附 工作台
【权利要求书】:

1.一种真空吸附工作台,其特征在于,包括底座、面板和激光功率检测装置,所述底座具有上端开口的内腔,所述底座上安装有用于抽出所述内腔空气的负压装置;

所述面板安装于所述底座上且封闭所述内腔的上端,所述面板上开设有多个贯通的第一吸附孔;

所述激光功率检测装置安装于所述面板的上端,所述激光功率检测装置开设有多个贯通且分别连通至各对应所述第一吸附孔的第二吸附孔。

2.根据权利要求1所述的真空吸附工作台,其特征在于,所述面板上还开设有下陷的安装腔,所述安装腔的底部设有多个所述第一吸附孔,所述激光功率检测装置安装至所述安装腔后,多个所述第二吸附孔与所述安装腔的多个所述第一吸附孔一一对应并连通。

3.根据权利要求2所述的真空吸附工作台,其特征在于,所述安装腔的深度与所述激光功率检测装置的厚度相同。

4.根据权利要求1所述的真空吸附工作台,其特征在于,多个所述第一吸附孔在所述面板上均匀分布。

5.根据权利要求1所述的真空吸附工作台,其特征在于,所述第一吸附孔和所述第二吸附孔为内径相同的圆柱形孔,且所述第一吸附孔和对应的所述第二吸附孔轴线重合。

6.根据权利要求1所述的真空吸附工作台,其特征在于,所述负压装置包括安装于所述底座并连通至所述内腔的真空接头。

7.根据权利要求1所述的真空吸附工作台,其特征在于,所述真空吸附工作台还包括安装于所述底座并连通至所述内腔的真空度探测器。

8.根据权利要求1-7任一项所述的真空吸附工作台,其特征在于,所述真空吸附工作台还包括安装于所述底座和所述面板之间的工作台分流部,所述工作台分流部具有多个导流件。

9.根据权利要求8所述的真空吸附工作台,其特征在于,所述底座具有侧壁,所述侧壁围合构成所述内腔,所述工作台分流部安装在所述侧壁的顶端,所述工作台的上端设有可供所述面板置入安装的面板安装腔,多个所述导流件构成所述面板安装腔的底部。

10.根据权利要求1所述的真空吸附工作台,其特征在于,所述激光功率检测装置覆盖所述面板的上端面,各所述第二吸附孔与各所述第一吸附孔一一对应。

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