[实用新型]等离子割炬无高频引弧炬头新型引弧结构

说明书

本实用新型涉及工业等离子焊接切割设备技术领域，尤其涉及等离子割炬无高频引弧炬头新型引弧结构，包括活塞连杆、活塞顶盖、引弧电极、割嘴、外部壳体和连接套杆；采用本实用新型，整体结构优化，产生更多的活塞推动力情况下有助于使用更高的活塞弹簧压缩力，更高的弹簧压缩力能够在引弧的初期把割嘴上的上的碳化氧化层击破，提高持续引弧成功率，在等离子切割当中持续引弧成功率是质量和效率的指标。

技术领域

本实用新型涉及中药提取提纯设备技术领域，尤其涉及等离子割炬无高频引弧炬头新型引弧结构。

背景技术

现有的等离子割炬，采用高频引弧的方式，实用高频率的电磁场，在正极与负极之间产生类等离子态的短路电流，使用气体把该短路电流吹出负极，以形成等离子弧，用于导电类金属的切割，使用目前的技术方案，往往会导致切割环境附近的精密仪器及精密电路，一直受到引弧初期的高频电磁干扰，进而损坏磁场附近的仪器和电子设备等。

然而现有的非高频割炬，也不能很好的控制与气压相关的机构，因受力和输出力的平衡，导致很多时候活塞运动不顺畅，同时活塞复位的机构力也不足，导致难以形成引弧机构需要的回路。

实用新型内容

本实用新型目的是在于提供一种结构优化，减少氧化，增强引弧成功率的新型引弧结构。

等离子割炬无高频引弧炬头新型引弧结构，包括活塞连杆、活塞顶盖、引弧电极、割嘴、外部壳体和连接套杆；

所述连接套杆套接在外部壳体的内腔壁上，并且所述连接套杆上下均开口，上开口处过盈装配有活塞滑套；所述活塞连杆滑动穿设在活塞滑套的内部，所述活塞顶盖固定装在活塞连杆的下端头处；所述引弧电极与活塞连杆的末端头螺纹装配连接；所述割嘴设置在连接套杆的下开口处，并且割嘴的内腔空间与引弧电极匹配；

所述活塞顶盖的下方区域，为活塞高压腔；所述活塞高压腔的底部，平行设置有排水孔，所述排水孔与活塞低压腔连通。

进一步的，所述活塞连杆伸入活塞滑套的一端上还绕设有活塞弹簧，所述活塞弹簧的上端抵接活塞滑套的下端面，下端抵接活塞顶盖的下端面；

进一步的，所述活塞顶盖的外圈为矩形齿台设计，开设有内增压台、第一增压侧台、第二增压侧台、第三增压侧台和顶部边台；

进一步的，所述顶部边台的上方，嵌设有活塞密封圈；所述活塞密封圈嵌设在活塞顶盖内，并与连接套杆滑动抵接；

进一步的，所述活塞高压腔和活塞低压腔之间压差保持在 0.03Mpa；

实用新型的有益效果是：

采用本实用新型，整体结构优化，产生更多的活塞推动力情况下有助于使用更高的活塞弹簧压缩力，更高的弹簧压缩力能够在引弧的初期(活塞复位期)把割嘴上的上的碳化氧化层(碳化氧化层由每次短路电流经过引弧电极和割嘴而产生)击破，减少由于氧化层导致的引弧失败，和正负极电阻过大导致的机器检测电流不通过导致的机器误判断报错；从而提高持续引弧成功率，在等离子切割当中持续引弧成功率是质量和效率的指标。

附图说明

图1是本实用新型的整体结构示意图；

附图标记：1-活塞连杆、2-活塞顶盖、21-内增压台、22-第一增压侧台、23-第二增压侧台、24-第三增压侧台、25-顶部边台、3-引弧电极、4-割嘴、5-活塞高压腔、6-活塞低压腔、7-排水孔、8-碳化氧化层、9-积水台、10-活塞弹簧、11-连接套杆、12-外部壳体、13-活塞滑套、14-活塞密封圈。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。