[实用新型]一种用于新一代信息技术的硅片抛光设备

说明书

本实用新型涉及一种硅片抛光设备，尤其涉及一种用于新一代信息技术的硅片抛光设备。要解决的问题是提供一种无需人工进行打磨抛光，加工效率高，可以清理粉尘的用于新一代信息技术的硅片抛光设备。本实用新型提供了这样一种用于新一代信息技术的硅片抛光设备，包括有：底座、支撑架和放置驱动机构，底座顶部设有多个支撑架，左侧的支撑架顶部设有放置驱动机构。采用打磨抛光机构和辅助抛光机构之间的配合，通过辅助抛光机构带动打磨抛光机构进行移动，从而在打磨过程中稳定抛光刀，方便对打磨进行细微的调整。

技术领域

本实用新型涉及一种硅片抛光设备，尤其涉及一种用于新一代信息技术的硅片抛光设备。

背景技术

在一般的多晶硅加工生产过程中，通常会对已降级的硅片进行打磨处理，以使其达到一定的产品规格，从而降低因残品淘汰而导致的成本损失，而随着生产需求的不断提高，人们对硅片打磨工艺也提出了更高的要求。目前现有的硅片打磨工艺实施过程中，通常是由工作人员利用碳化硅等辅料对待处理的硅片进行手工打磨，虽然该种现有的硅片打磨处理方式能够满足基本的生产加工需要，但由于其加工效率较低，且工人劳动强度较大，给相关的生产工序的顺利实施造成了诸多不利影响，打磨抛光过程中会产生大料粉尘，不易清理，且会对工作人员健康造成影响。

因此，需要设计一种无需人工进行打磨抛光，加工效率高，可以清理粉尘的用于新一代信息技术的硅片抛光设备，来解决上述问题。

实用新型内容

为了克服手工打磨，加工效率较低，打磨抛光过程中会产生大料粉尘，不易清理的缺点，要解决的技术问题为：提供一种无需人工进行打磨抛光，加工效率高，可以清理粉尘的用于新一代信息技术的硅片抛光设备。

一种用于新一代信息技术的硅片抛光设备，包括有底座、支撑架、放置驱动机构和打磨抛光机构，底座顶部设有多个支撑架，左侧的支撑架顶部设有放置驱动机构，右后侧的支撑架顶部设有打磨抛光机构。

进一步说明，放置驱动机构包括有、伺服电机、驱动轴、放置盘和卡爪，左侧的支撑架顶部设有伺服电机，伺服电机输出端设有驱动轴，驱动轴上设有放置盘，放置盘上设有四个卡爪。

进一步说明，打磨抛光机构包括有、第一滑轨、滑块、第一推杆、支撑柱、连接杆和抛光刀，右后侧的支撑架顶部设有第一滑轨，第一滑轨内滑动式设有滑块，滑块前侧设有第一推杆，第一推杆上设有支撑柱，支撑柱内滑动式设有连接杆，连接杆左侧之间设有抛光刀。

进一步说明，还包括有辅助抛光机构，辅助抛光机构包括有第二推杆、第一螺纹块、丝杆、成对锥齿轮、套轴、传动轴、第二滑轨、支撑座、支撑板、转轮和握把，右前侧的支撑架顶部设有第二滑轨，第二滑轨内转动式设有丝杆，第二滑轨左侧设有支撑座，支撑座内设有支撑板，支撑板上转动式设有传动轴，传动轴上设有套轴，套轴与丝杆上设有成对锥齿轮，丝杆上螺纹式设有第一螺纹块，第一螺纹块与第二滑轨滑动式接触，第一螺纹块上设有第二推杆，第二推杆与支撑柱相连接，套轴前侧设有转轮，转轮上转动式设有握把。

进一步说明，还包括有水磨清洗机构，水磨清洗机构包括有水箱、过滤板、外接水软管、出水活塞、挡板、转动轴、舱门、把手和挡门板，底座顶部中部设有水箱，驱动轴与水箱转动式连接，水箱内滑动式设有过滤板，底座顶部前侧设有外接水软管，水箱前侧下部设有出水活塞，水箱顶部设有挡板，水箱左后侧转动式设有转动轴，转动轴上设有舱门，舱门后侧设有把手，水箱后侧设有挡门板。

进一步说明，还包括有夹紧定位机构，夹紧定位机构包括有支撑块、导杆、弹簧和夹紧爪，放置盘上均匀设有四个支撑块，支撑块顶部均滑动式设有导杆，导杆端部之间均设有夹紧爪，夹紧爪与支撑块之间均设有弹簧，弹簧均设在导杆上。

进一步说明，还包括有可更换刀头机构，可更换刀头机构包括有第二螺纹块、卡销、卡柱和握手，支撑柱与连接杆之间滑动式设有两个卡柱，卡柱后端之间设有握手，卡柱前端之间滑动式设有卡销，卡销左侧螺纹式设有第二螺纹块。

进一步说明，水箱的容积为5升。