[实用新型]一种弧源箱体与溅射箱体的密封装置

说明书

本实用新型公开了一种弧源箱体与溅射箱体的密封装置，包括箱体，设置在箱体上的出料口，还包括安装在箱体上的固定架和支撑架，安装在固定架上的旋转气缸，安装在支撑架上的旋转轴，以及安装在旋转轴上的密封组件，旋转气缸上设置有输出轴，输出轴上安装有联轴器，联轴器另一端与旋转轴连接，本实用新型通过旋转气缸带动旋转轴转动，从而带动安装在旋转轴上的密封组件转动，实现密封组件和箱体的打开和密封，无需人工手动对箱体进行密封，有效的增加箱体的密封工作效率，同时采用旋转气缸实现装置的自动密封，不会出现因人工疏忽导致密封不完全的情况。

【技术领域】

本实用新型涉及机械设备领域，具体是指一种弧源箱体与溅射箱体的密封装置。

【背景技术】

磁控溅射是物理气相沉积的一种。一般的溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多材料，且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点，在进行磁控溅射时需要密闭环境因此需要将出料口密封，同样电弧离子镀技术也需要在密闭空间进行，但是现有的弧源箱和溅射箱在使用时通常是人工安装密封圈进行密封，在弧源箱和溅射箱工作完成之后，手动拆除密封圈后出料，这种密封方式需要人工手动密封不仅工作效率低，人工成本高，并且也会出现人员疏忽导致密封圈安装不到位出现泄漏的情况。为此，提出了一种弧源箱体与溅射箱体的密封装置。

【实用新型内容】

本实用新型的目的是为了解决人工手动密封工作效率低的问题而提出一种弧源箱体与溅射箱体的密封装置。

为了达到上述目的，本实用新型提供了如下技术方案：一种弧源箱体与溅射箱体的密封装置，包括箱体，设置在箱体上的出料口，其特征是还包括安装在箱体上的固定架和支撑架，安装在固定架上的旋转气缸，安装在支撑架上的旋转轴，以及安装在旋转轴上的密封组件，所述旋转气缸上设置有输出轴，所述输出轴上安装有联轴器，所述联轴器另一端与旋转轴连接。

进一步优选的：所述密封组件包括安装在旋转轴上的连接架，以及安装在连接架上的与出料口相适配的密封块。

进一步优选的：所述密封块上设置有固定螺杆，所述连接架上设置有与固定螺杆相适配的安装孔和固定螺母，所述密封块上还设置有连接片，所述连接片和连接架上设置有连接轴。

进一步优选的：所述出料口上设置有导向条，所述密封块上设置有与导向条相配合的密封槽。

本实用新型的有益效果：

1.本实用新型通过旋转气缸带动旋转轴转动，从而带动安装在旋转轴上的密封组件转动，实现密封组件和箱体的打开和密封，无需人工手动对箱体进行密封，有效的增加箱体的密封工作效率，同时采用旋转气缸实现装置的自动密封，不会出现因人工疏忽导致密封不完全的情况。

2.本实用新型在出料口上上设置有导向条，在密封块上设置有密封槽，通过导向条和密封槽的配合使得装置密封性能更好，不会出现泄漏的情况。

【附图说明】

附图1是本实用新型的结构示意图；

附图2是本实用新型另一视角的结构示意图；

附图3是附图2中A处放大图。

图例说明：1、箱体；101、出料口；1011、导向条；2、固定架；201、旋转气缸；2011、输出轴；2012、联轴器；3、支撑架；301、旋转轴；4、密封组件；401、连接架；4011、安装孔；4012、固定螺母；402、密封块；4021、固定螺杆；4022、连接片；4023、连接轴4024、密封槽。

具体实施方式

下面我们结合附图1-3对本实用新型所述的一种弧源箱体与溅射箱体的密封装置做进一步的说明。