[实用新型]一种高精度调节电晕间隙的电晕处理架

权利要求书

1.一种高精度调节电晕间隙的电晕处理架，包括机架(1)，所述机架(1)上转动连接有电晕辊(11)，所述电晕辊(11)上方设有保护罩(2)，其特征在于：所述保护罩(2)远离电晕辊(11)的一侧转动连接有中心齿轮(31)，所述保护罩(2)上滑移连接有齿条(32)，所述齿条(32)与中心齿轮(31)啮合，所述保护罩(2)远离电晕辊(11)一侧的两端均转动连接有调节齿轮(33)，两个所述调节齿轮(33)均与齿条(32)啮合，所述保护罩(2)穿设有两根升降螺杆(34)，所述升降螺杆(34)的轴线与电晕辊(11)的轴线垂直，所述升降螺杆(34)与调节齿轮(33)同轴且二者螺纹连接，两根所述升降螺杆(34)朝向电晕辊(11)的一端均相对固定有固定块(4)，所述固定块(4)朝向电晕辊(11)的一侧相对固定有电极条(5)，两个所述固定块(4)分别位于电极条(5)长度方向的两端。

2.根据权利要求1所述的一种高精度调节电晕间隙的电晕处理架，其特征在于：所述固定块(4)远离电晕辊(11)的一侧固定连接有导柱(41)，所述导柱(41)的轴线与升降螺杆(34)的轴线平行，所述导柱(41)穿过保护罩(2)。

3.根据权利要求2所述的一种高精度调节电晕间隙的电晕处理架，其特征在于：所述导柱(41)上设有参照刻度(411)，所述参照刻度(411)用于表示固定块(4)与保护罩(2)的相对距离。

4.根据权利要求1所述的一种高精度调节电晕间隙的电晕处理架，其特征在于：所述中心齿轮(31)沿其轴向插入有止转销(311)，所述保护罩(2)上开设有若干供止转销(311)插入的止转孔(22)，且当所述止转销(311)由其中一个止转孔(22)移动至另一个相邻的止转孔(22)时，升降螺杆(34)的移动距离小于1mm。

5.根据权利要求1所述的一种高精度调节电晕间隙的电晕处理架，其特征在于：所述固定块(4)的侧面开设有调节室(42)，所述升降螺杆(34)的一端位于调节室(42)内，且升降螺杆(34)穿过固定块(4)的部分固定连接有长度方向与升降螺杆(34)相同的阻转凸起(341)，所述固定块(4)且位于升降螺杆(34)穿过的通孔的内壁上开设有供阻转凸起(341)滑移的阻转滑槽(43)，所述升降螺杆(34)位于调节室(42)内的部分螺纹连接有支撑螺母(35)，所述支撑螺母(35)与调节室(42)的顶面抵接。

6.根据权利要求5所述的一种高精度调节电晕间隙的电晕处理架，其特征在于：所述支撑螺母(35)为锁紧螺母。

7.根据权利要求5所述的一种高精度调节电晕间隙的电晕处理架，其特征在于：所述机架(1)上且位于固定块(4)的上方穿设有校平杆(12)，所述校平杆(12)的长度方向与电晕辊(11)的轴线平行。

8.根据权利要求1所述的一种高精度调节电晕间隙的电晕处理架，其特征在于：所述保护罩(2)内且位于电晕辊(11)轴线的两侧固定连接有挡块(23)，所述固定块(4)的两侧固定连接有限位块(44)，当所述挡块(23)的上表面与限位块(44)的下表面抵接时，所述电极条(5)与电晕辊(11)之间存在间隙。