[实用新型]用于半导体晶圆清洗的烘干装置有效

专利信息
申请号: 202120365472.2 申请日: 2021-02-09
公开(公告)号: CN214620345U 公开(公告)日: 2021-11-05
发明(设计)人: 钱诚;李刚;李涛;朱震 申请(专利权)人: 江苏亚电科技有限公司
主分类号: F26B9/06 分类号: F26B9/06;F26B21/00;F26B25/00;F26B25/02;H01L21/683;H01L21/67
代理公司: 北京商专润文专利代理事务所(普通合伙) 11317 代理人: 陈平
地址: 225500 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 用于 半导体 清洗 烘干 装置
【权利要求书】:

1.用于半导体晶圆清洗的烘干装置,包括烘干箱(1),所述烘干箱(1)主要由支撑腿(101)、底板(102)、外壳(103)、顶板(104)、防尘罩(105)、密封门(106)组成,所述支撑腿(101)顶部通过螺栓连接有所述底板(102),所述底板(102)顶部外侧通过螺栓连接有所述外壳(103),所述外壳(103)顶部通过螺栓连接有所述顶板(104),所述顶板(104)顶部开设有排气孔,且排气孔内侧螺接有所述防尘罩(105),所述外壳(103)前端通过合页连接有所述密封门(106),其特征在于:还包括烘干机构(2)、放料机构(4),所述外壳(103)内部中央设置有烘干机构(2),所述烘干机构(2)外侧设置有所述放料机构(4),所述放料机构(4)包括上行星架(401)、放料架组(402)、下行星架(403),所述上行星架(401)底部外侧通过轴承连接有若干个所述放料架组(402),所述放料架组(402)下端穿过所述下行星架(403),并与所述下行星架(403)通过轴承连接,且连接有驱动其转动的联动机构(3),所述放料架组(402)包括转动杆(4021)、放料架(4022),所述转动杆(4021)周侧通过螺钉连接有若干个等距离设置的所述放料架(4022),所述烘干机构(2)包括风机(201)、中心管(202)、连通管(203)、出风管(204)、加热丝(205)、支撑网孔管(206)、滤清器(207),所述风机(201)的进气端通过喉箍连接有所述滤清器(207),所述风机(201)通过螺栓连接在所述顶板(104)顶部中央,所述风机(201)下方通过螺钉连接有所述中心管(202),所述中心管(202)穿过所述顶板(104)和所述上行星架(401),并与所述上行星架(401)通过轴承连接,且位于所述上行星架(401)下方部分的周侧焊接有若干组所述连通管(203),每组设置有若干个所述连通管(203),所述连通管(203)远离所述中心管(202)的一端焊接有竖直设置的所述出风管(204),且所述出风管(204)通过所述连通管(203)与所述中心管(202)连通,所述中心管(202)内部通过螺钉连接有所述加热丝(205),所述加热丝(205)内侧设置有用于支撑所述加热丝(205)的所述支撑网孔管(206)。

2.根据权利要求1所述的用于半导体晶圆清洗的烘干装置,其特征在于:所述连通管(203)的组数与所述放料架组(402)的数量相同,且位置相对应。

3.根据权利要求2所述的用于半导体晶圆清洗的烘干装置,其特征在于:每组的所述连通管(203)的数量比每个所述转动杆(4021)外侧的所述放料架(4022)的数量多一个,且每个所述放料架(4022)的上下方均设置有一个所述连通管(203)。

4.根据权利要求3所述的用于半导体晶圆清洗的烘干装置,其特征在于:最上端的所述出风管(204)顶部以及最下方的所述出风管(204)底部均螺接有密封盖(2041)。

5.根据权利要求1所述的用于半导体晶圆清洗的烘干装置,其特征在于:所述防尘罩(105)包括外螺纹管(1051)、支撑杆(1052)、盖板(1053),所述外螺纹管(1051)螺接在排气孔内侧,所述外螺纹管(1051)顶部焊接有若干个等角度设置的所述支撑杆(1052),所述支撑杆(1052)顶部通过螺钉连接有直径大于该排气孔的所述盖板(1053)。

6.根据权利要求1所述的用于半导体晶圆清洗的烘干装置,其特征在于:所述放料架(4022)包括安装环(40221)、连接杆(40222)、放料环(40223)、支撑架(40224),所述安装环(40221)通过螺钉连接在所述转动杆(4021)外侧,所述安装环(40221)外侧焊接有若干个所述连接杆(40222),所述连接杆(40222)远离所述转动杆(4021)的一端焊接有所述放料环(40223),所述放料环(40223)内侧底部焊接有所述支撑架(40224)。

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