[实用新型]薄片类介质处理装置有效

专利信息
申请号: 202120359433.1 申请日: 2021-02-09
公开(公告)号: CN214774922U 公开(公告)日: 2021-11-19
发明(设计)人: 曲之平;连宁;赵刚;王春涛;孙建宇 申请(专利权)人: 山东新北洋信息技术股份有限公司
主分类号: B41J29/13 分类号: B41J29/13;B41J29/12
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 264203 山东省*** 国省代码: 山东;37
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摘要:
搜索关键词: 薄片 介质 处理 装置
【权利要求书】:

1.一种薄片类介质处理装置,其特征在于,包括壳体及设置于所述壳体内的处理机构,所述壳体设有连通所述壳体的内部与外部的开口,所述壳体的外表面还设有挡水部,沿液体由所述壳体的外表面向所述开口的流动方向,所述挡水部位于所述开口的上游,所述挡水部用于阻止液体流入所述开口。

2.根据权利要求1所述的薄片类介质处理装置,其特征在于,所述壳体包括主体和盖体,所述主体设有敞口,所述盖体与所述主体活动连接,用于打开或封闭所述敞口,当所述盖体封闭所述敞口时,所述开口形成于所述主体和所述盖体之间,所述挡水部设置于所述主体或所述盖体。

3.根据权利要求2所述的薄片类介质处理装置,其特征在于,所述挡水部设置于所述盖体,所述挡水部包括用于阻止液体流入开口的阻挡面,所述阻挡面与所述盖体的外表面相对,且二者呈角度设置。

4.根据权利要求3所述的薄片类介质处理装置,其特征在于,所述盖体和所述主体之间形成用于容纳薄片类介质的第一容纳腔,所述开口用于输出薄片类介质。

5.根据权利要求4所述的薄片类介质处理装置,其特征在于,所述盖体包括弧形体,当所述盖体封闭所述敞口时,所述弧形体与所述主体之间形成用于容纳薄片类介质的所述第一容纳腔,所述阻挡面与所述弧形体的外表面连接,沿竖直方向,所述弧形体的外表面具有顶端和底端,所述阻挡面与所述弧形体的外表面的连接位置位于所述顶端与所述底端之间。

6.根据权利要求3所述的薄片类介质处理装置,其特征在于,所述挡水部还包括过渡面,所述过渡面连接于所述阻挡面和所述盖体的外表面之间,所述过渡面和所述阻挡面之间形成向下凹陷的积水槽。

7.根据权利要求6所述的薄片类介质处理装置,其特征在于,所述积水槽设有与所述壳体的外部连通的出水口,所述过渡面沿其延伸方向具有高端和低端,所述过渡面的所述低端与所述出水口连通。

8.根据权利要求4所述的薄片类介质处理装置,其特征在于,所述壳体包括第一挡部和第二挡部,沿垂直于薄片类介质输出的方向,所述第一挡部和所述第二挡部相对地设置于所述开口的两侧,所述第一挡部和所述第二挡部均与所述盖体的外表面连接,所述阻挡面位于所述第一挡部和所述第二挡部之间,且所述阻挡面的两端分别与所述第一挡部和所述第二挡部连接。

9.根据权利要求8所述的薄片类介质处理装置,其特征在于,所述第一挡部和/或所述第二挡部设有排水孔,所述排水孔设置于所述阻挡面背离所述开口的一侧,所述排水孔用于使流至所述阻挡面的液体排出至所述壳体的外部。

10.根据权利要求1-9任一项所述的薄片类介质处理装置,其特征在于,所述壳体的外表面还设有第二容纳腔,所述第二容纳腔用于容纳由所述开口输入或输出的薄片类介质,沿液体由所述壳体的外表面向所述开口的流动方向,所述第二容纳腔位于所述挡水部和所述开口之间。

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