[实用新型]指纹成像模组及电子设备有效

专利信息
申请号: 202120342635.5 申请日: 2021-02-05
公开(公告)号: CN214704658U 公开(公告)日: 2021-11-12
发明(设计)人: 黄建东 申请(专利权)人: 上海耕岩智能科技有限公司
主分类号: G06K9/00 分类号: G06K9/00;G06K9/20
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 张凤伟;张振军
地址: 201800 上海市*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 指纹 成像 模组 电子设备
【说明书】:

一种指纹成像模组及电子设备。所述指纹成像模组包括:至少一个传感组件,所述传感组件具有感测面;点光源组件,位于预设斜面上,用于产生入射光;透光盖板,位于所述传感组件及所述点光源组件上方;所述透光盖板具有用于输入指纹信息的第一面;其中,所述预设斜面所在平面与所述透光盖板的第一面所在平面斜交;所述点光源组件产生的入射光经所述透光盖板的第一面反射后,被所述传感组件的感测面接收。采用上述方案,可以增大指纹采集面积或者提高指纹图像清晰度。

技术领域

实用新型涉及指纹成像技术领域,具体涉及一种指纹成像模组及电子设备。

背景技术

指纹识别是在采集人体指纹图像后,将指纹图像与指纹识别系统中已有的指纹信息进行比对,以实现身份识别。由于使用的方便性,以及人体指纹的唯一性,指纹识别技术已经大量应用于各个领域,比如,公安局、海关、个人电脑等。

现有的指纹识别方法中,大都通过光学传感器采集人体指纹图像。具体地,光源可以产生入射光,入射光投射至手指表层时,经手指反射会形成带有指纹信息的反射光,由光学传感器接收所述反射光,获得指纹图像。

然而,现有指纹成像模组所获得的指纹图像,要么指纹采集面积较小,要么指纹图像清晰度较差,难以较好地满足用户需求。

实用新型内容

本实用新型要解决的问题是:增大指纹采集面积或者提高指纹图像清晰度。

为解决上述问题,本实用新型实施例提供了一种指纹成像模组,所述指纹成像模组包括:

至少一个传感组件,所述传感组件具有感测面;

点光源组件,位于预设斜面上,用于产生入射光;

透光盖板,位于所述传感组件及所述点光源组件上方;所述透光盖板具有用于输入指纹信息的第一面;

其中,所述预设斜面所在平面与所述透光盖板的第一面所在平面斜交;所述点光源组件产生的入射光经所述透光盖板的第一面反射后,被所述传感组件的感测面接收。

可选地,所述指纹成像模组还包括:位于所述点光源组件与所述透光盖板之间的棱镜,所述棱镜用于提供所述预设斜面;所述点光源组件产生的入射光经所述棱镜入射至所述透光盖板内。

可选地,所述点光源组件至所述透光盖板的距离,大于所述传感组件感测面至所述透光盖板的距离。

可选地,所述指纹成像模组还包括:支撑部件,用于提供所述预设斜面;所述点光源组件位于所述支撑部件和所述透光盖板之间。

可选地,所述透光盖板具有与其第一面相对的第二面,所述透光盖板的第二面形成有凹槽,所述点光源组件容纳至所述凹槽内。

可选地,所述透光盖板具有所述预设斜面和与其第一面相对的第二面,所述预设斜面位于所述透光盖板的第一面及第二面之间。

可选地,所述预设斜面与所述透光盖板的第一面所在平面之间的锐角夹角范围为大于等于40度且小于等于60度。

可选地,所述指纹成像模组还包括:摄像头组件,位于所述透光盖板下方。

可选地,所述点光源组件产生的入射光经所述透光盖板的第一面反射后,被所述传感组件面向所述透光盖板的第一面的感测面接收。

可选地,还包括:基板,所述传感组件位于所述透光盖板和所述基板之间,透光盖板所述点光源组件产生的入射光经所述透光盖板的第一面反射至所述基板,再由所述基板反射至所述传感组件背向所述透光盖板的感测面,所述基板具有透光性。

可选地,所述传感组件包括具有透光且面向所述透光盖板设置的第一面,所述传感组件还包括:位于所述传感组件的第一面上的掩膜层,所述掩膜层用于阻挡由所述传感组件的第一面进入的光线。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海耕岩智能科技有限公司,未经上海耕岩智能科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202120342635.5/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top