[实用新型]抗菌膜体构造

说明书

本实用新型公开了一种抗菌膜体构造，包括一底层、一结合力改性面、一二氧化硅基层、一有机亲水抗菌层、一二氧化硅保护层、一抗指纹AF/AS层，该有机亲水抗菌层设在该二氧化硅基层上；该二氧化硅保护层设在该有机亲水抗菌层上。该抗菌膜体可达到抗菌、抗指纹及抗污和防水的功能。

技术领域

本实用新型涉及一种抗菌膜体构造，尤其涉及一种抗菌、抗指纹及防水的多层结构。

背景技术

TW I636146B“功能性膜层的成膜方法、功能性膜层，及抗菌抗指纹组件”提供了一种成膜方法，利用物理性共镀膜方式于一基材表面形成一层由该第一待镀材料及第二待镀材料共同构成且具有抗菌及抗指纹特性的功能性膜层，该第一待镀材料包含抗菌化合物，该第二待镀材料包含抗指纹化合物。此外，还提供一种可同时具有抗菌性及抗指纹特性的功能性膜层，及一含有该功能性膜层的抗菌抗指纹组件。不过，该功能性膜层并不具有防水功能。

实用新型内容

本实用新型的目的在于克服现有技术的不足之处，提供了一种抗菌膜体构造，具备抗菌、抗指纹及防水功能。

本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是：

一种抗菌膜体构造，包括：一二氧化硅基层；一有机亲水抗菌层，设在该二氧化硅基层上；一二氧化硅保护层，设在该有机亲水抗菌层上。

进一步，在一底层上设置该二氧化硅基层，且该底层上设有一结合力改性面。该二氧化硅基层设在该结合力改性面。例如，该底层通过等离子体、射频或离子源进行表面改性而形成该结合力改性面。

进一步，该二氧化硅基层的厚度为5nm～20nm。

进一步，该有机亲水抗菌层厚度为20nm～40nm。例如，将一抗菌配方与该二氧化硅基层反应，生成该有机亲水抗菌层，其中，反应温度为60℃～150℃，在真空度10^-5～10^-3大气压力之下。

进一步，再将该有机亲水抗菌层利用等离子体技术进行清洁处理。

进一步，该二氧化硅保护层的厚度为2nm～5nm。

进一步，该二氧化硅保护层上设有一抗指纹AF/AS层。

进一步，该二氧化硅保护层局部的散布在该有机亲水抗菌层上，并界定出一亲水区域及一疏水区域；该有机亲水抗菌层上具有该二氧化硅保护层的部分形成该疏水区域，该有机亲水抗菌层上没有该二氧化硅保护层的部分形成该亲水区域。

进一步，该有机亲水抗菌层包括有机锌。

进一步，该二氧化硅基层呈三维结构，例如为不规则的波浪状。

进一步，该底层为PET(聚对苯二甲酸乙二醇酯)、PI(聚酰亚胺)等塑料、金属、玻璃或陶瓷材质。

本技术方案与背景技术相比，它具有如下优点：

1.本实用新型的二氧化硅保护层局部地散布于有机亲水抗菌层，并产生亲水区域及疏水区域，该疏水区域可以有效避免该有机亲水抗菌层受到外界的水、清洁剂、或刮除等方式的影响而脱落，而该亲水区域因为没有沉积到该二氧化硅保护层，当外界的物品或皮肤接触到该亲水区域，将会透过毛细现象而接触到该有机亲水抗菌层，进而达到杀菌灭菌的效果。

2.本实用新型设置该二氧化硅基层的目的在于便于结合该有机亲水抗菌层。

3.现有技术一般采用纳米银作为抗菌配方，而本实用新型的有机亲水抗菌层使用具有亲肤性的天然抗菌配方。

4.本实用新型的有机亲水抗菌层中含有有机锌，通过带正电的锌离子吸引带负电的细菌等微生物，锌离子破坏细胞膜，使细菌丧失活性甚至死亡，从而实现抗菌目的。

附图说明