[实用新型]一种硅片载具

说明书

本实用新型提供了一种硅片载具，属于硅片运输设备技术领域，包括：托盘；载板，位于所述托盘的上方；升降调节机构，连接在所述托盘和所述载板之间，用于驱动所述载板沿所述载板和所述托盘的连线方向做竖向升降运动以调整所述载板和所述载板上方的靶材之间的靶基距。本实用新型提供的硅片载具，在托盘和载板之间设置升降调节机构，使得通过驱动升降调节机构，可以对载板进行移动，达到调整载板与靶材之间靶基距的效果，结构简便，便于调整，避免调节工艺参数。

技术领域

本实用新型涉及硅片运输设备技术领域，具体涉及一种硅片载具。

背景技术

物理气相沉积(Physical Vapor Deposition，简称PVD)溅射镀膜是制备硅基异质结电池电极的一个主要工艺环节，硅片进入PVD的方式是将硅片放置在载板上，载板放在托盘上，然后由PVD的传动装置带动托盘进入PVD腔体，设备和托盘调整好后，靶基距(靶基距指的是靶材溅射和载板之间的距离)也相应确定。

通常情况下，靶基距对薄膜的沉积速率和沉积质量影响很大，一方面，薄膜沉积速率与靶基距的二次方成反比，靶基距越小，薄膜沉积速率越快；另一方面，靶基距越大，靶材溅射出的粒子与其他粒子碰撞的概率越大，被溅射出的粒子到达基片时的能量越低，基片上薄膜的成膜质量也越均匀。

现有的PVD溅射工艺中，在调节薄膜沉积速率和沉积质量时，只能通过调整气体流量、溅射功率、气体压强、衬底温度等参数进行调节，而靶基距无法实现调节，因此调节手段比较单一。

实用新型内容

因此，本实用新型要解决的技术在于克服现有技术中的硅片载具和靶材之间的靶基距不能调节的缺陷，从而提供了一种硅片载具。

为解决上述技术问题，本实用新型提供了一种硅片载具，包括：

托盘；

载板，位于所述托盘的上方，用于承载硅片；

升降调节机构，连接在所述托盘和所述载板之间，用于驱动所述载板沿所述载板和所述托盘的连线方向做竖向升降运动以调整所述载板和所述载板上方的靶材之间的靶基距。

可选的，所述升降调节机构包括：

固定块，连接在所述托盘上；

活动块，竖向活动连接于所述固定块，且一端与所述载板相连；

丝杆，绕其轴向转动连接于所述固定块，且其轴向方向与所述托盘和所述载板的连线方向相垂直；

滑块，螺纹连接于所述丝杆；

第一连接件，一端固定连接于所述滑块，另一端铰接于所述载板；

所述滑块随所述丝杆的转动沿所述丝杆的轴向方向做往复运动，以通过所述第一连接件带动所述载板沿所述载板和所述托盘的连线方向做竖向升降运动。

可选的，所述升降调节机构还包括：

第二连接件，一端固定连接于所述滑块，另一端铰接于所述托盘。

可选的，所述固定块上设有滑槽，所述活动块滑动连接于所述滑槽内。

可选的，所述活动块上设有条形孔，所述条形孔的长度方向沿所述活动块的运动方向设置，所述丝杆穿设于所述条形孔内。

可选的，所述载板上连接有第一固定座，所述第一连接件的一端铰接在所述第一固定座上。

可选的，所述第一连接件包括一端连接于所述滑块的第一连接臂和连接于所述第一连接臂另一端的第一连接轴，所述第一固定座上设有两个分别位于所述第一连接轴相对两侧的第一支臂，所述第一支臂上开设有第一安装孔，所述第一连接轴转动连接在两个所述第一支臂的第一安装孔上。