[实用新型]一种上电极设备和等离子体处理装置有效
| 申请号： | 202120204985.5 | 申请日： | 2021-01-25 |
| 公开（公告）号： | CN214705850U | 公开（公告）日： | 2021-11-12 |
| 发明（设计）人： | 周颖;李明 | 申请（专利权）人： | 长江存储科技有限责任公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01L21/67 |
| 代理公司： | 北京派特恩知识产权代理有限公司 11270 | 代理人： | 邵磊;张颖玲 |
| 地址： | 430074 湖北省武*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 电极 设备 等离子体 处理 装置 | ||
1.一种上电极设备，其特征在于，所述上电极设备应用于等离子体处理装置中，所述上电极设备用于对反应气体进行加压，以将所述反应气体激发成等离子态并作用于待处理晶圆上；所述上电极设备包括：相对设置的基板和上电极板；其中，
所述上电极板包括：第一部分和围绕所述第一部分的第二部分，所述第一部分为所述上电极板的中心部分；所述第二部分包括多个同心圆环子部；
所述第一部分和所述多个同心圆环子部与所述待处理晶圆之间的距离可调。
2.根据权利要求1所述的上电极设备，其特征在于，
所述第一部分和所述多个同心圆环子部与所述基板之间分别通过伸缩杆连接；所述伸缩杆用于分别调节所述第一部分和所述多个同心圆环子部与所述待处理晶圆之间的距离。
3.根据权利要求1所述的上电极设备，其特征在于，
所述第一部分和所述第二部分之间设有密封圈，以密封所述第一部分和所述第二部分之间的缝隙。
4.根据权利要求1所述的上电极设备，其特征在于，
所述多个同心圆环子部中相邻两个同心圆环子部之间设有密封圈，以密封所述相邻两个同心圆环子部之间的缝隙。
5.根据权利要求1所述的上电极设备，其特征在于，
所述第一部分包括面向所述待处理晶圆的第一表面区域；所述第二部分包括面向所述待处理晶圆的第二表面区域；
所述第一表面区域和/或所述第二表面区域包括多个喷孔，反应气体通过所述多个喷孔输入至所述等离子体处理装置的反应腔室内，并垂直作用在所述待处理晶圆上。
6.根据权利要求1所述的上电极设备，其特征在于，
所述上电极板的外侧包裹有电极绝缘层。
7.根据权利要求6所述的上电极设备，其特征在于，
所述电极绝缘层的材料为陶瓷、钢化玻璃、石英玻璃或微晶玻璃。
8.根据权利要求1所述的上电极设备，其特征在于，
所述第一部分和所述多个同心圆环子部与所述待处理晶圆之间的距离不同。
9.根据权利要求1所述的上电极设备，其特征在于，
所述第一部分和所述多个同心圆环子部的厚度相同。
10.一种等离子体处理装置，其特征在于，所述装置包括：反应腔室、晶圆支撑件、下电极设备以及权利要求1至9任一项所述的上电极设备。
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