[实用新型]一种用于磨抛机的滴液装置

说明书

本实用新型公开了一种用于磨抛机的滴液装置。它包括与基座连通的立台，基座的顶部设有瓶体，瓶体的开口处设有瓶盖，瓶盖的一端延伸至立台的顶部并与其卡接，瓶盖上设有延伸至立台内部的进液接头，进液接头的一端连通有延伸至瓶体内的抽液管，基座的内部设有驱动支架旋转的旋转部件，电磁铁环形分布在支架的顶部，瓶体的内底壁上活动设有搅拌架，搅拌架上设有与电磁铁数量一致的固定磁片，立台的一侧设有出液接头，其内部设有水泵，水泵的进水口通过水管与进液接头连通，其出水口通过水管与出液接头连通，出液接头的另一端通过水管与磨抛机本体连通。它使得微粒均匀分布在抛光液中，避免出现沉淀在瓶体底部的情况，提高了磨抛的质量。

技术领域

本实用新型涉及磨抛机领域，特别是一种用于磨抛机的滴液装置。

背景技术

磨抛机是一种研磨设备，它利用各种不同粒度的耐水研磨金相砂纸，对各种金属及其合金试样以及各种岩相试样进行粗磨、精磨、干磨、湿磨等各道研磨工序，作抛光前的粗加工工序，同时可作抛光试样，可一次性完成磨抛工作，磨抛机的使用可以起到一机多用的好处。磨抛机在磨抛的过程中会加入抛光液来提供稳定高效的磨抛效果，由于抛光液中含有微粒，抛光液在瓶体中放置一段时间后，存在着其微粒沉淀在瓶体底部的情况，这就导致了在磨抛时抛光液中微粒含量不均匀，最终影响到磨抛的质量。

实用新型内容

本实用新型的目的在于，提供一种用于磨抛机的滴液装置，使得微粒均匀分布在抛光液中，避免出现沉淀在瓶体底部的情况，提高了磨抛的质量。

为解决上述技术问题，本实用新型采用如下的技术方案：

一种用于磨抛机的滴液装置，包括设置在磨抛机本体一侧的基座，所述基座的一侧贯通连接有立台，所述基座的顶部活动设置有瓶体，所述瓶体的开口处设置有与其匹配的瓶盖，所述瓶盖的一端延伸至立台的顶部并与其相卡接，所述瓶盖位于立台顶部处设置有延伸至立台内部的进液接头，所述进液接头的一端贯通连接有延伸至瓶体内部下方的抽液管，所述基座的内部设置有搅拌组件，所述搅拌组件设置在瓶体的正下方，所述搅拌组件包括支架和电磁铁，所述基座的内部固定设置有驱动支架旋转的旋转部件，所述电磁铁的数量至少设置有三个且环形分布在支架的顶部，所述瓶体的内底壁上活动设置有搅拌架，所述搅拌架的底部嵌设有与电磁铁数量一致的固定磁片，每个所述固定磁片对应一电磁铁，所述立台的内部设置有水泵，所述立台的一侧设置有出液接头，所述水泵的进水口通过水管与进液接头贯通连接，所述水泵的出水口通过水管与出液接头贯通连接，所述出液接头的另一端通过水管与磨抛机本体贯通连接。

优选地，所述旋转部件为驱动电机，所述支架的中部与旋转部件的输出轴固定连接。

优选地，所述基座的顶部开设有容纳槽，所述瓶体设置在容纳槽内。

优选地，所述立台朝向基座的一侧固定设置有L形结构的瓶托，所述瓶托位于基座正上方的一侧开设有与瓶体相匹配的稳定孔，所述瓶体贯穿稳定孔设置，所述稳定孔位于瓶体的中部。

优选地，所述瓶体的材质为透明材质。

优选地，所述瓶体的数量设置有至少4个。

优选地，所述立台远离基座的一侧等间距开设有若干个散热槽。

优选地，所述基座远离立台的一侧固定设置有控制器，所述水泵、旋转部件和电磁铁均与控制器电性连接，所述控制器与外部电源电性连接。

与现有技术相比，本实用新型的有益之处在于：

1)本实用新型通过提供一种用于磨抛机的滴液装置，使得微粒均匀分布在抛光液中，避免出现沉淀在瓶体底部的情况，提高了磨抛的质量；