[实用新型]一种涂布系统

权利要求书

1.一种涂布系统，用于涂布基体以形成极片，其特征在于，包括：

涂布头，设有相互独立的至少两个分配腔，每个分配腔具有各自的涂布开口；

供料装置，所述供料装置与所述分配腔连接，所述供料装置用于为所述分配腔提供浆料；以及

阀，至少一个分配腔与所述供料装置之间设有所述阀，所述阀用于使对应的分配腔与所述供料装置连通或断开。

2.根据权利要求1所述的涂布系统，其特征在于，所述涂布系统还包括背辊，所述背辊用于传动所述基体；

每个所述涂布开口的出料方向与所述背辊的直径的延伸方向重合。

3.根据权利要求2所述的涂布系统，其特征在于，所述至少两个分配腔中的其中一个分配腔的涂布开口的出料方向水平布置。

4.根据权利要求1所述的涂布系统，其特征在于，所述涂布系统还包括吸附装置，所述吸附装置用于保持所述涂布开口处气压稳定。

5.根据权利要求1所述的涂布系统，其特征在于，所述涂布系统还包括打标装置，所述打标装置位于所述涂布头的下游，所述打标装置用于对所述基体未涂布区域打标，以标识出薄涂位置或者不涂位置。

6.根据权利要求1所述的涂布系统，其特征在于，所述分配腔的数量为两个；

所述涂布头包括下模、中模和上模；

所述上模的下表面与所述中模的上表面之间形成一个分配腔，所述中模的下表面与所述下模的上表面之间形成另一个分配腔。

7.根据权利要求6所述的涂布系统，其特征在于，所述涂布头还包括两个垫片，所述两个垫片分别设于所述上模和所述中模之间、所述中模和所述下模之间；

所述涂布开口设于所述垫片。

8.根据权利要求6所述的涂布系统，其特征在于，所述上模和所述中模枢转连接，所述中模和所述下模枢转连接；

所述涂布头还包括第一合模件和第二合模件，所述第一合模件用于在所述上模和所述中模闭合时固定所述上模和所述中模，所述第二合模件用于在所述中模和所述下模闭合时固定所述中模和所述下模。

9.根据权利要求1所述的涂布系统，其特征在于，所述供料装置的数量为至少两个，所述供料装置与所述分配腔一一对应；

所述供料装置包括储料罐和供料泵，所述供料泵用于将所述储料罐内的浆料泵送至所述分配腔。

10.根据权利要求9所述的涂布系统，其特征在于，所述阀包括阀体、第一阀芯、第二阀芯、第一驱动件和第二驱动件；

所述阀体设有入料口、回料口和出料口，所述出料口与所述分配腔连通，所述入料口与所述供料泵的出口连通，所述回料口与所述储料罐连通；

所述第一驱动件被配置为驱动所述第一阀芯在所述阀体内运动，以使所述入料口和所述出料口连通或断开；

所述第二驱动件被配置为驱动所述第二阀芯在所述阀体内运动，以使所述出料口与所述回料口连通或断开。