[实用新型]一种烧结钕铁硼SC铸片的粉碎及表面改性的装置

说明书

本实用新型公开了一种烧结钕铁硼SC铸片的粉碎及表面改性的装置。本实用新型提供了无底部喷嘴的非对向型粉碎装置，并通过改变结构使气流产生小规模的湍流、涡流，促进粉末的旋转、平稳的碰撞，使粉末表面畸变和晶格缺陷变少，促进球状粉末的生成。粉末球状化提高了磁体的Hcj、Hk，同时提高了粉末在磁场中的取向度，进而提高了磁体的Br和着磁性。本实用新型的装置能更稳定地进行粉碎，粉末取向度好，磁场成型、烧结得到的磁体性能和成品率提高。

技术领域

本实用新型涉及金属粉末加工技术领域，具体涉及钕铁硼粉末的加工。

背景技术

钕铁硼(Nd-Fe-B)系烧结永磁材料多由Nd-Fe-B粉末通过粉末冶金工艺，经压制及烧结制成。Nd-Fe-B粉末目前多采用速凝片(又称甩带铸造法、甩带法、甩片法等，stripcasting， SC)+氢粉碎(hydrogen decrepitation，HD)工艺制备。钕铁硼SC合金铸片经氢粉碎处理后变得非常脆、易碎，可以进一步粉碎细化。

粉碎钕铁硼粉末常用的气流磨微粉碎法(JM)，是用高速气流带动粉料对撞，从而实现粗粉的破碎，获得微粉。图1至图3展示了属于现有技术中常见气流磨的一种对向型(又称相对型/相向型)粉碎装置，包括粉体供给机1’、粉体粉碎室2’、回转型分级机3’、气流分级机4’和产品粉体回收容器5’；粉体供给机1’将待粉碎的粉体送入粉体粉碎室2’；粉体粉碎室2’设有若干喷嘴6’，喷嘴6’分为在底部设置的底喷嘴和在侧壁设置的侧喷嘴，喷嘴6’喷出的高速气流带动粉料运动和碰撞进行粉碎；回转型分级机3’设于粉体粉碎室2’内并位于喷嘴6’之上，将粉碎后的粒径符合要求的粉末送入气流分级机4’；气流分级机4’通过气流分选将合格和不合格的粉末分开，送入产品粉体回收容器5’或收集起来再次送回粉碎装置进行粉碎。另外还有一种对撞型(又称冲击式)粉碎装置，如图4，也包括粉体供给机1”、粉体粉碎室2”、回转型分级机3”、气流分级机4”和产品粉体回收容器5”，粉体粉碎室2”底部设有喷嘴6”，不同的是粉体粉碎室2”内还设有撞击板7”，撞击板7”可以悬空设置如图4，也可以设置在底部中央；通过底部喷嘴6”喷射气流使粉末与撞击板7”撞击，同时粉末之间也相互撞击，进而增加粉碎效率。为了防止氧化，粉碎气体使用氮、氩、氦、氙(N₂、Ar、He、Xe)等惰性气体。粉碎气体中一般含有微量的氧气、水分、油、有机溶剂、润滑剂、防氧化剂等。分级后的气体会被回收并压缩后再利用。

现有的JM法的粉碎力非常高，但获得的Nd-Fe-B系微粉常形状锐利，带有尖锐的边角，微细锐利粉末数量增加，导致磁体的方形度和磁性能变差。

实用新型内容

本实用新型的目的在于克服现有技术的不足之处，提供了一种烧结钕铁硼SC铸片的粉碎及表面改性的装置。

本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是：

一种烧结钕铁硼SC铸片的粉碎及表面改性的装置，包括粉碎及表面改性室，所述粉碎及表面改性室设有若干周向间隔布置的侧喷嘴，所述若干侧喷嘴围绕一中心点设置；任一所述侧喷嘴的出口与所述中心点形成的连线与该侧喷嘴喷出的气流的流动方向形成一个夹角；所述粉碎及表面改性室的内侧壁还设有若干周向布置的向内凸起的第一凸部。

本实用新型的烧结钕铁硼SC铸片的粉碎及表面改性的装置中，粉碎及表面改性室的若干侧喷嘴为非对向型设置(也可称为非对撞型/非相向型/非对置型)，所述若干侧喷嘴围绕一中心点设置；如图17～22，任一侧喷嘴的出口与所述中心点形成的连线与该侧喷嘴喷出的气流的流动方向形成一个夹角。所述中心点为一个虚拟的点而非实体点，可以是各侧喷嘴的出口的几何中心点，例如各侧喷嘴的出口共同所在的圆的圆心，或者各侧喷嘴的出口共同所在的球面的球心等。在粉碎及表面改性室为圆筒形时，所述中心点可以位于所述圆筒形的粉碎及表面改性室的中轴线上。

所述若干侧喷嘴可以位于同一个与地面相平行的平面上。在这种情况下，各侧喷嘴的出口可以共同位于一个与地面平行的圆上，该圆的圆心即为中心点M，如图17～20所示。