[实用新型]批次型湿法刻蚀设备有效
| 申请号: | 202120138106.3 | 申请日: | 2021-01-19 |
| 公开(公告)号: | CN213988841U | 公开(公告)日: | 2021-08-17 |
| 发明(设计)人: | 吴镐硕;朴灵绪 | 申请(专利权)人: | 苏州恩腾半导体科技有限公司 |
| 主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67 |
| 代理公司: | 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 | 代理人: | 余明伟 |
| 地址: | 215024 江苏省苏州市苏州工业园*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 批次 湿法 刻蚀 设备 | ||
1.一种批次型湿法刻蚀设备,其特征在于,包括槽体、供液管路、惰性气体管路、支架及轴承;所述供液管路一端与刻蚀液源相连通,另一端与所述槽体相连通,以向槽体内供应刻蚀液体;所述惰性气体管路位于所述槽体内且位于槽体下部,与惰性气体源相连通,惰性气体管路上设置有进气孔,以向刻蚀液内供应惰性气体,从而使刻蚀液向上鼓泡;所述支架位于槽体外,所述轴承固定于所述支架上,且所述惰性气体管路与所述轴承相连接;当驱动所述轴承旋转时,所述轴承带动所述惰性气体管路移动以改变所述惰性气体管路的位置。
2.根据权利要求1所述的批次型湿法刻蚀设备,其特征在于,所述惰性气体管路通过连接杆与所述轴承相连接,所述连接杆自所述槽体的底部沿所述槽体的侧壁延伸到所述槽体外部。
3.根据权利要求1所述的批次型湿法刻蚀设备,其特征在于,所述轴承包括塑料轴承。
4.根据权利要求1所述的批次型湿法刻蚀设备,其特征在于,所述批次型湿法刻蚀设备还包括把手,所述把手与所述轴承相连接,以通过所述把手驱动所述轴承旋转。
5.根据权利要求1所述的批次型湿法刻蚀设备,其特征在于,所述批次型湿法刻蚀设备还包括电机,所述电机与所述轴承相连接,以在需要时驱动所述轴承旋转。
6.根据权利要求1所述的批次型湿法刻蚀设备,其特征在于,所述惰性气体管路上的进气孔为多个,多个进气孔均匀间隔分布。
7.根据权利要求1所述的批次型湿法刻蚀设备,其特征在于,所述惰性气体管路为多条,多条惰性气体管路平行间隔分布。
8.根据权利要求1所述的批次型湿法刻蚀设备,其特征在于,所述批次型湿法刻蚀设备还包括加热器及温控装置,所述加热器位于所述槽体内,所述温控装置与所述加热器相连接。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造





