[实用新型]一种微波等离子体产生装置

说明书

本实用新型公开了一种微波等离子体产生装置，属于微波技术领域，包括等离子体炬；所述等离子体炬包括外壳；所述外壳内设有圆柱状腔；所述圆柱状腔内设有反应管；所述外壳上设有进气口和出气口；所述进气口和出气口通过反应管连通；所述外壳上设有馈口；所述馈口连通圆柱状腔。本实用新型的一种微波等离子体产生装置，等离子体易激发，等离子体产生效率高，具有自动监测复反射系数功能，采用自动三销钉适配器自动调配，提高微波能量的利用率，能够快速自动点火，稳定可靠。

技术领域

本实用新型属于微波技术领域，具体地说涉及一种微波等离子体产生装置。

背景技术

随着IC封装和芯片制造等电子产品制造领域中产品日益多样化，产品的清洗方式也变得越来越大多样化。总体分为干法清洗和湿法清洗两种。湿法清洗一般会以液体作为清洗媒介对待清洗物进行清洗，包括蒸汽清洗、溶液浸泡清洗、旋转清洗等。采用液体一般为水、酸、碱和有机溶剂等，这不仅浪费了大量的洗涤剂还对环境造成了污染，同时还可能对待清洗产品造成伤害。干法清洗包括机械清洗、激光清洗、超声波清洗、干冰清洗以及等离子清洗。机械清理需要施加外力进行摩擦，可能会对产品造成伤害。激光清理是污渍吸收高能激光后气化挥发，这种方式效率比较低。超声波清洗同样需要将产品浸泡在溶剂里，在超声波的高频震荡下达到清洗目的。干冰清洗是利用干冰的低温效果使污渍瞬间脆化爆裂，这需要大量干冰。等离子体清洗利用等离子体中的高能粒子和活性粒子，通过轰击或活化反应作用将金属表面污物去除的过程。

根据选择的工艺气体不同，等离子体清洗可分为化学清洗、物理清洗及物理化学清洗。目前产生等离子体有四种激励电源频率，分别是直流等离子清洗、低频40KHz等离子清洗、射频13.56MHz等离子清洗及微波2.45GHz等离子清洗技术。

微波等离子体产生装置是利用工作频率为2.45GHz的微波源，振荡产生的高频交变电磁场将氧、氩、氢等工艺气体电离，生成等离子体的装置。产生的活性等离子体可对污渍进行物理轰击与化学反应双重作用，使被清洗物表面物质变成粒子和气态物质，经过抽真空排出，而达到清洗目的。

微波等离子清洗与传统湿法清洗相比，不需要使用大量的酸、碱、有机溶剂等，不会给环境带来任何污染，有利于环保和人员安全。微波等离子清洗技术的均匀性、重复性和可控性非常好，具有三维处理能力，可以进行方向选择。微波等离子清洗与低频或射频放电产生的等离子体相比，它的特点是没有正负电极，自偏压很小，不会产生放电污染，有效防止静电损伤。微波等离子密度高，生产效率高。离子运动冲击小，不会产生UV紫外线辐射，尤其适用于一些敏感电路的产品清洗。

现有的微波等离子体产生装置的微波等离子体的产生效率低下，不易激发，微波传输效率低，微波能源利用率低，反应管易高温变形，不够可靠稳定。

实用新型内容

本实用新型的目的是针对上述不足之处提供一种微波等离子体产生装置，拟解决现有的微波等离子体产生装置的微波等离子体的产生效率低下，不易激发，微波传输效率低，微波能源利用率低，反应管易高温变形，不够可靠稳定等问题。为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：