[实用新型]高浓制药废水处理系统有效

专利信息
申请号: 202120016732.5 申请日: 2021-01-05
公开(公告)号: CN214167718U 公开(公告)日: 2021-09-10
发明(设计)人: 楼铮铮;金挺;胡斌斌 申请(专利权)人: 杭州珩钧环境工程有限公司
主分类号: C02F9/14 分类号: C02F9/14;C02F103/34;C02F101/16;C02F101/30;C02F1/72;C02F1/78
代理公司: 上海恒慧知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31317 代理人: 徐红银
地址: 310020 浙江省杭*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 制药 废水处理 系统
【权利要求书】:

1.一种制药废水处理系统,其特征在于,所述废水处理系统包括依次相连的第一调节池、混凝沉淀池、中间池、臭氧氧化塔、混凝气浮池、水解池、第一沉淀池、一级A/O池、第二沉淀池、二级A/O池、反应沉淀池和污泥浓缩池;所述污泥浓缩池还分别与混凝沉淀池、混凝气浮池、第一沉淀池和第二沉淀池相连;所述中间池内设双氧水加药装置。

2.根据权利要求1所述的制药废水处理系统,其特征在于,还包括前置的预处理装置;所述预处理装置包括结晶罐、抽滤装置,以及依次相连的高盐集水池、三效蒸发器和冷凝装置;所述结晶罐分别与三效蒸发器和抽滤装置相连;所述抽滤装置的滤液回流至高盐集水池;所述冷凝装置的出水进入所述第一调节池。

3.根据权利要求1所述的制药废水处理系统,其特征在于,还包括第二调节池;所述第二调节池的低浓废水出口与混凝气浮池相连。

4.根据权利要求1所述的制药废水处理系统,其特征在于,所述第一调节池的池内设有穿孔曝气装置。

5.根据权利要求1所述的制药废水处理系统,其特征在于,所述混凝沉淀池、混凝气浮池内分别设有混凝剂加药装置。

6.根据权利要求1所述的制药废水处理系统,其特征在于,所述第一沉淀池设有污泥回流出口;所述污泥回流出口与水解池相连。

7.根据权利要求1所述的制药废水处理系统,其特征在于,所述第二沉淀池设有设有污泥回流出口;所述污泥回流出口与一级A/O池的A池相连。

8.根据权利要求1所述的制药废水处理系统,其特征在于,所述二级A/O池设有加药装置。

9.根据权利要求1所述的制药废水处理系统,其特征在于,还包括与所述污泥浓缩池相连的压滤系统;所述压滤系统的滤液出口与第一调节池相连。

10.根据权利要求1所述的制药废水处理系统,其特征在于,所述污泥浓缩池设有上清液出口,所述上清液出口与第一调节池相连。

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