[发明专利]一种超薄遮光胶带及制备方法

说明书

本发明提供了一种超薄遮光胶带，包括基材，所述基材上下两侧在远离基材的方向上依次设有胶水层和离型层，所述基材上侧或/和下侧设有组合层，所述组合层位于基材与胶水层之间。本发明解决了现有遮光胶带在保障胶带遮光性和粘性的同时，无法做到超薄的问题。

技术领域

本发明涉及遮光胶带技术领域，具体涉及一种超薄遮光胶带及制备方法。

背景技术

遮光胶带通常贴附在显示面板模组中基板组件的出光面四周的边缘，一方面可以起到遮光和固定显示面板模组的作用，另一方面还可以导除基板组件上的静电。

现有遮光胶带采用PET基材，经油墨印刷、胶水涂布固化的工艺，最后贴合离型膜形成遮光胶带，一般厚度在50um以上；在手机、PAD等电子产品超薄化的趋势下，为了追求更薄的遮光胶带，现有厂商的技术都是在更薄的基材和黑色油墨厚度以及胶水厚度进行调节。但是，更薄的PET基材，需要涂布黑色油墨层，其厚度越薄，透过率就会增加，遮光性能就会下降；基材厚度下降10％，透光率增加5％，因此对遮光性能要求接近100％的遮光胶带，已经不能满足。同样胶水层厚度也无法无限下降，厚度越薄，遮光胶带的粘着力降低，胶带品质会下降无法满足生产需求。黑色PET从其成膜工艺机理上，有可能实现更薄但遮光性能下降，且业内未见相应的研究成果。而胶水厚度薄型化方面的调节，会导致粘性降低。因此超薄遮光胶带技术按照业内传统惯例，多数厂家在原有结构的基材和胶水层之间进行厚度调节已出现瓶颈，超薄胶带已是业内一大难题，亟待突破。

发明内容

为了克服现有技术的不足，本发明提供了一种超薄遮光胶带及制备方法，解决了现有遮光胶带在保障遮光胶带遮光性和粘性的同时无法做到超薄的问题。

本发明解决其技术问题所采用的技术方案是：一种超薄遮光胶带，包括基材，所述基材上下两侧在远离基材的方向上依次设有胶水层和离型层，所述基材上侧或/和下侧设有组合层，所述组合层位于基材与胶水层之间。

优选的，所述组合层包括位于基材上的非金属层，所述非金属层远离基材的一侧设有金属遮光层。

优选的，所述非金属层厚度为200～500nm且材质为氮化硅或氧化硅。

优选的，所述金属遮光层厚度为100nm～500nm且材质为Mo、Al或AlNd中的一种。

优选的，所述金属遮光层透光率为0％。

优选的，所述基材厚度为1～5um且材质为PET或PI。

优选的，所述金属遮光层表面设有对位标识、防溢胶结构。

一种超薄遮光胶带制备方法，包括如下步骤：

步骤一、选取基材并对基材表面清洗处理；

步骤二、对清洗后的基材上侧通过CVD工艺沉积处理，形成氮化硅或氧化硅材质的非金属层；

步骤三、对步骤二中的非金属层表面物理溅射Mo、Al或AlNd，形成金属遮光层；

步骤四、利用激光在步骤三中的金属遮光层表面刻蚀对位标识和防溢胶结构；

步骤五、对步骤四中的基材下侧、金属遮光层表面涂布胶层，待胶层固化后，形成胶水层；

步骤六、对步骤五中的胶水层复合离型层，完成超薄遮光胶带制作。

本发明的有益效果为：