[发明专利]一种KYKY分子泵机组真空系统检漏方法在审

专利信息
申请号: 202111659611.3 申请日: 2021-12-30
公开(公告)号: CN114439731A 公开(公告)日: 2022-05-06
发明(设计)人: 田红义 申请(专利权)人: 武汉亿贝达科技有限公司
主分类号: F04B41/06 分类号: F04B41/06;F04B37/14;F04B51/00;G01M3/20
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 430000 湖北省武汉市洪山区狮*** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 一种 kyky 分子 机组 真空 系统 检漏 方法
【权利要求书】:

1.一种KYKY分子泵机组,其特征在于,包括前置真空泵(1)、分子泵(2)和封堵机构(3),所述封堵机构(3)的一端固定安装有真空环境设备;

前置真空泵(1),前置真空泵(1)作为前级粗抽机械泵;

分子泵(2),所述分子泵(2)能够通过管道固定安装有前置真空泵(1);

封堵机构(3),多个所述封堵机构(3)固定安装在前置真空泵(1)和分子泵(2)的进气口和抽气口处。

2.根据权利要求2所述的一种KYKY分子泵机组,其特征在于:还包括填充装置;

所述填充装置的一端固定安装有增压泵,所述填充装置的一端还与示漏物质罐相连。

3.根据权利要求3所述的一种KYKY分子泵机组,其特征在于:所述封堵机构(3)的外壁分别设置有与真空环境设备和填充装置一端尺寸相适配的接口,所述封堵机构(3)的尺寸与前置真空泵(1)和分子泵(2)的外壁接口尺寸相适配。

4.根据权利要求1-3一种KYKY分子泵机组所述的一种KYKY分子泵机组真空系统检漏方法,其特征在于:

向机组内部填充满示漏物质,获取机组内部压力值;

使机组外部处于稳定负压状态,监测机组外部负压状态下机组外部变化;

若出现示漏物质露出,则从机组外部将漏出点周边封堵,继续监测机组外部变化;

待示漏物质停止漏出时,向机组内部补充示漏物质至充满,向机组内示漏物质发射光线;

使用光敏传感器获取机组内部光线折射数据,绘制机组内部含有漏点的三维立体模型。

5.根据权利要求4所述的一种KYKY分子泵机组真空系统检漏方法,其特征在于:所述示漏物质为具有低透光率的液体。

6.根据权利要求4所述的一种KYKY分子泵机组真空系统检漏方法,其特征在于:还包括机组原始封闭无漏点模型的绘制,与机组内部含有漏点的三维立体模型对比获取漏点位置。

7.根据权利要求4所述的一种KYKY分子泵机组真空系统检漏方法,其特征在于,所述待示漏物质停止漏出时,向机组内部补充示漏物质至充满,向机组内示漏物质发射光线包括:

所述光线发射时为多次间断发射,光线发射时的光线强度由弱到强不断提升,光线发射角度定向调整,至完整获取机组内部含有漏点的三维立体模型。

8.根据权利要求4所述的一种KYKY分子泵机组真空系统检漏方法,其特征在于,所述使用光敏传感器获取机组内部光线折射数据,绘制机组内部含有漏点的三维立体模型包括:

所述光敏传感器为多点整列式分布,绘制机组内三维立体模型时还包括对示漏物质透光度的获取。

9.根据权利要求1-8所述的一种KYKY分子泵机组及真空系统检漏方法,其特征在于:所述机组的外侧设置有多个多轴机械臂,所述机械臂的一端固定安装有多个封堵头,所述机组外侧还安装有多个传感器。

10.根据权利要求9所述的一种KYKY分子泵机组真空系统检漏方法,其特征在于:还包括有测试终端,所述测试终端与填充装置、真空环境设备和机械臂信号连接,所述测试终端通过传感器接收到的信号对机组进行控制。

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