[发明专利]显示模组以及显示装置在审
申请号: | 202111658471.8 | 申请日: | 2021-12-30 |
公开(公告)号: | CN114335061A | 公开(公告)日: | 2022-04-12 |
发明(设计)人: | 陈海晶 | 申请(专利权)人: | 湖北长江新型显示产业创新中心有限公司 |
主分类号: | H01L27/15 | 分类号: | H01L27/15;H01L27/12;H01L27/32;H01L51/52 |
代理公司: | 北京允天律师事务所 11697 | 代理人: | 张忠魁 |
地址: | 430205 湖北省武汉市东湖新技术*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 显示 模组 以及 显示装置 | ||
1.一种显示模组,其特征在于,所述显示模组包括:
发光元件;
阵列基板,所述阵列基板包括:第一基板以及位于所述第一基板上的控制电路,所述控制电路用于控制所述发光元件进行发光显示;所述控制电路包括信号线;
吸光层,所述吸光层位于所述信号线背离所述第一基板的一侧;在垂直所述第一基板的方向上,所述吸光层与所述信号线具有重叠部分;所述吸光层用于降低所述显示模组在所述重叠部分对应区域对入射环境光的反射率;
第一光学膜结构,所述第一光学膜结构位于所述吸光层背离所述信号线的一侧,在垂直所述第一基板的方向上,所述第一光学膜结构至少遮挡所述重叠部分,所述第一光学膜结构用于降低所述吸光层在所述重叠部分对光线的反射率。
2.根据权利要求1所述的显示模组,其特征在于,所述吸光层对第一可见光线的吸收率大于对第二可见光线的吸收率,且所述第一光学膜结构对所述第一可见光线的透过率大于对所述第二可见光线的透过率。
3.根据权利要求1所述的显示模组,其特征在于,所述第一光学膜结构包括多层透光介质层,该多层所述透光介质层在所述垂直于所述第一基板的方向上层叠;任意相邻的两层所述透光介质层中,一层为低折射率介质层,一层为高折射率介质层。
4.根据权利要求3所述的显示模组,其特征在于,所述透光介质层的数量不超过10层。
5.根据权利要求3所述的显示模组,其特征在于,所述高折射率介质层的厚度为t11,折射率为n11,
所述低折射率介质层的厚度为t12,折射率为n12,
其中,A1为正整数常数;λ1为设定的波常数;n11>1.5;n12<1.5。
6.根据权利要求1所述的显示模组,其特征在于,还包括:第二光学膜结构;
其中,所述第一光学膜结构覆盖第一部分,所述第二光学膜结构覆盖第二部分;所述第一部分与所述第二部分不交叠。
7.根据权利要求6所述的显示模组,其特征在于,所述第二部分对第一可见光线的吸收率大于对第二可见光线的吸收率,且所述第二光学膜结构对所述第一可见光线的透过率大于对所述第二可见光线的透过率。
8.根据权利要求7所述的显示模组,其特征在于,所述吸光层对所述第一可见光线的吸收率大于对所述第二可见光线的吸收率,且所述第一光学膜结构对所述第一可见光线的透过率大于对所述第二可见光线的透过率。
9.根据权利要求6所述的显示模组,其特征在于,所述吸光层对所述第一可见光线的吸收率小于对所述第二可见光线的吸收率,且所述第一光学膜结构对所述第一可见光线的透过率大于对所述第二可见光线的透过率;
所述第二部分对第一可见光线的吸收率大于对第二可见光线的吸收率,且所述第二光学膜结构对所述第一可见光线的透过率小于对所述第二可见光线的透过率。
10.根据权利要求6所述的显示模组,其特征在于,所述第二光学膜结构包括多层透光介质层,该多层所述透光介质层在所述垂直于所述第一基板的方向上层叠;任意相邻的两层所述透光介质层中,一层为低折射率介质层,一层为高折射率介质层。
11.根据权利要求10所述的显示模组,其特征在于,所述透光介质层的数量不超过10层。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的