[发明专利]一种化学气相沉积装置

权利要求书

1.一种化学气相沉积装置，用于衬底的外延生长，包括反应腔（1），其特征在于，所述化学气相沉积装置还包括：

衬托器（2），倾斜设置在所述反应腔（1）内，用于放置所述衬底；

供气组件（3），设置在所述反应腔（1）的一端，包括竖直排列设置的多条进气气路（32），多条所述进气气路（32）分别用于输送包含不同浓度的原料气体的外延气体，所述供气组件（3）通过所述进气气路（32）朝所述衬托器（2）输送的所述外延气体中的所述原料气体的浓度随高度下降而减小。

2.根据权利要求1所述的化学气相沉积装置，其特征在于，所述反应腔（1）为收缩结构,所述反应腔（1）沿所述外延气体的流动方向收缩。

3.根据权利要求1所述的化学气相沉积装置，其特征在于，所述供气组件（3）朝所述衬托器（2）输送的所述外延气体中的所述原料气体的浓度随高度下降而平滑下降。

4.根据权利要求1所述的化学气相沉积装置，其特征在于，所述供气组件（3）朝所述反应腔（1）输送的所述外延气体中的所述原料气体的浓度随高度下降而平滑下降。

5.根据权利要求1所述的化学气相沉积装置，其特征在于，所述化学气相沉积装置还包括与所述反应腔（1）一体连接的进气腔（4）和出气腔（5），所述进气腔（4）设置在所述供气组件（3）和所述反应腔（1）之间，所述出气腔（5）设置在所述反应腔（1）的另一端。

6.根据权利要求1所述的化学气相沉积装置，其特征在于，所述衬托器（2）通过安装板（6）和旋转轴（7）安装在所述反应腔（1）内，所述旋转轴（7）与所述衬托器（2）固定连接。

7.根据权利要求6所述的化学气相沉积装置，其特征在于，所述化学气相沉积装置还包括驱动组件，所述驱动组件用于驱动所述旋转轴（7）旋转。

8.根据权利要求1所述的化学气相沉积装置，其特征在于，所述衬底的圆心位于在所述衬托器（2）顶面的几何中心上。

9.根据权利要求1所述的化学气相沉积装置，其特征在于，所述衬托器（2）的长度方向与水平方向形成的夹角的角度为5-30°。

10.根据权利要求1所述的化学气相沉积装置，其特征在于，所述衬托器（2）与所述反应腔（1）的上内壁面和下内壁面均存在间隙。