[发明专利]一种使用SIC二极管的IGBT功率模块及其制造方法在审
| 申请号: | 202111631547.8 | 申请日: | 2021-12-28 |
| 公开(公告)号: | CN114284261A | 公开(公告)日: | 2022-04-05 |
| 发明(设计)人: | 陈佳旅;王海强;袁秉荣;何昌 | 申请(专利权)人: | 深圳市美浦森半导体有限公司 |
| 主分类号: | H01L25/18 | 分类号: | H01L25/18;H01L29/739;H01L29/872;H01L21/50 |
| 代理公司: | 东莞市卓易专利代理事务所(普通合伙) 44777 | 代理人: | 陈海祥 |
| 地址: | 518000 广东省深圳市南山区招*** | 国省代码: | 广东;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 使用 sic 二极管 igbt 功率 模块 及其 制造 方法 | ||
1.一种使用SIC二极管的IGBT功率模块,包括封装模块、IGBT单管及二极管,其特征在于,所述二极管为SIC二极管,所述IGBT单管的漏极与所述SIC二级管的正极固定在封装模块的基板上;所述IGBT单管的源极与所述SIC二级管的负极连接到封装模块的源极管脚上;所述IGBT单管的栅极连接到封装模块的栅极管脚上。
2.根据权利要求1所述的一种使用SIC二极管的IGBT功率模块,其特征在于,所述SIC二极管为碳化硅肖特基二极管,包括依次设置的背面金属、碳化硅n+衬底、n-外延漂移区和底部金属,所述n-外延漂移区和所述底部金属相对的一面设有若干个沟槽,每两个相邻的沟槽间设有第一接触孔,每个所述沟槽的底部设有第二接触孔,所述沟槽的底部覆盖有正面金属,所述沟槽的侧壁设有栅氧化层,所述底部金属和所述n-外延漂移区相对的一面设有与所述沟槽数量相等的凸起,所述凸起与所述沟槽相配合。
3.根据权利要求1所述的一种使用SIC二极管的IGBT功率模块,其特征在于,所述碳化硅肖特基二极管为6H-SiC、4H-SiC或3C-SiC。
4.根据权利要求1所述的一种使用SIC二极管的IGBT功率模块,其特征在于,所述封装模块的封装标准序号为247,所述IGBT单管及所述SIC二极管固定在封装标准序号为247的封装模块上。
5.一种如权利要求1所述的一种使用SIC二极管的IGBT功率模块的制造方法,其特征在于,包括如下步骤:
S10、把IGBT单管的漏极和SIC二级管的正极通过芯片键合的方式固定在封装模块基板上;
S20、把IGBT单管的源极和SIC二级管的负极通过引线键合的方式连接到封装模块源极管脚上;
S30、把IGBT单管的栅极极通过引线键合的方式连接到封装模块栅极管脚上;
S40、用塑封料将IGBT单管及SIC二极管固定在封装模块上并封装在一起;
S50、通过IGBT测试仪测试合格后包装出厂。
6.根据权利要求5所述的一种使用SIC二极管的IGBT功率模块的制造方法,其特征在于,所述SIC二级管采用碳化硅肖特基二极管。
7.根据权利要求6所述的一种使用SIC二极管的IGBT功率模块的制造方法,其特征在于,还包括如下生产所述碳化硅肖特基二极管的步骤:
S100、在碳化硅n+衬底上生长有n-外延漂移区;
S200、在n-外延漂移区3上相隔预定距离刻有若干个沟槽;
S300、在沟槽侧壁生长有栅氧化层;
S400、在沟槽间和沟槽底开设有接触孔,沟槽底接触孔覆盖有高势垒的正面金属;
S500、在沟槽间接触孔和正面金属之上覆盖有低势垒的底部金属;
S600、碳化硅n+衬底背面覆盖有背面金属;
所述正面金属和所述背面金属构成碳化硅肖特基二极管的阳极;所述碳化硅n+衬底和所述背面金属构成碳化硅肖特基二极管的阴极。
8.根据权利要求5所述的一种使用SIC二极管的IGBT功率模块的制造方法,其特征在于,所述步骤S40中,将所述IGBT单管及所述SIC二极管固定封装在封装标准序号为247的封装模块上。
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