[发明专利]一种电池组件的制作方法及其制作设备有效
申请号: | 202111617850.2 | 申请日: | 2021-12-27 |
公开(公告)号: | CN114300577B | 公开(公告)日: | 2023-07-21 |
发明(设计)人: | 沈军峰;包君坚;任康;张天峰;张青峰 | 申请(专利权)人: | 横店集团东磁股份有限公司 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18 |
代理公司: | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人: | 李礼 |
地址: | 322118 浙*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 电池 组件 制作方法 及其 制作 设备 | ||
1.一种电池组件的制作方法,其特征在于,包括:
制作一基准模板,其中,所述基准模板包括至少一个通孔和至少两个子基准模板,相邻两个所述子基准模板之间包括一通孔,所述子基准模板的数量与标准图纸中标准电池片的数量相等,所述子基准模板的宽度与所述标准电池片的宽度的差值在第一设定阈值范围内,所述通孔的宽度与所述标准图纸中相邻两个所述标准电池片之间的间距的差值在第二设定阈值范围内;
将至少两个实际电池片按照所述基准模板组成电池组件,其中,所述电池组件中所述实际电池片的数量与所述基准模板中所述子基准模板的数量相等,所述实际电池片的宽度与所述子基准模板的宽度的差值在第三设定阈值范围内,所述电池组件中相邻两个所述实际电池片之间的间距与所述通孔的宽度的差值在第四设定阈值范围内;
所述第一设定阈值范围为-0.2~0.2mm;
所述第二设定阈值范围为-0.2~0.2mm;
所述第三设定阈值范围为-0.2~0.2mm;
所述第四设定阈值范围为-0.2~0.2mm。
2.根据权利要求1所述的制作方法,其特征在于,所述制作一基准模板具体包括:
获取所述标准图纸中所述标准电池片的数量、宽度以及相邻两个所述标准电池片之间的间距;
提供一基板,其中,所述基板的尺寸大于所述标准图纸的尺寸;
根据所述标准电池片的数量、宽度以及相邻两个所述标准电池片之间的间距激光切割所述基板形成所述基准模板。
3.根据权利要求2所述的制作方法,其特征在于,所述根据所述标准电池片的数量、宽度以及相邻两个所述标准电池片之间的间距激光切割所述基板形成所述基准模板之后还包括:
对所述基准模板进行拍照得到第一图像;
获取所述第一图像中所述通孔的宽度并将该宽度与所述标准图纸中相邻两个所述标准电池片之间的间距进行对比。
4.根据权利要求2所述的制作方法,其特征在于,所述基板包括铁皮、环氧树脂板或不锈钢板。
5.根据权利要求1所述的制作方法,其特征在于,所述将至少两个实际电池片按照所述基准模板组成电池组件之后还包括:
对所述电池组件进行拍照得到第二图像;
获取所述第二图像中相邻两个所述实际电池片之间的间距并检测该间距与所述标准图纸中相邻两个所述标准电池片之间的间距的差值是否在第五设定阈值范围内;
若在,则输出所述电池组件,若不在,则重新调整所述电池组件中相邻两个所述实际电池片之间的间距,并返回至对所述电池组件进行拍照得到第二图像的步骤。
6.根据权利要求5所述的制作方法,其特征在于,所述第五设置阈值范围为-0.2~0.2mm。
7.一种电池组件的制作设备,其特征在于,包括基准模板机和叠焊机;
所述基准模板机用于制作基准模板,其中,所述基准模板包括至少一个通孔和至少两个子基准模板,相邻两个所述子基准模板之间包括一通孔,所述子基准模板的数量与标准图纸中标准电池片的数量相等,所述子基准模板的宽度与所述标准电池片的宽度的差值在第一设定阈值范围内,所述通孔的宽度与所述标准图纸中相邻两个所述标准电池片之间的间距的差值在第二设定阈值范围内;
所述叠焊机用于将至少两个实际电池片按照所述基准模板组成电池组件,其中,所述电池组件中所述实际电池片的数量与所述基准模板中所述子基准模板的数量相等,所述实际电池片的宽度与所述子基准模板的宽度的差值在第三设定阈值范围内,所述电池组件中相邻两个所述实际电池片之间的间距与所述通孔的宽度的差值在第四设定阈值范围内;
所述第一设定阈值范围为-0.2~0.2mm;
所述第二设定阈值范围为-0.2~0.2mm;
所述第三设定阈值范围为-0.2~0.2mm;
所述第四设定阈值范围为-0.2~0.2mm。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的