[发明专利]一种晶圆清洗装置

权利要求书

1.一种晶圆清洗装置，其特征在于，包括：

一支架；

三个轴，平行安装在所述支架上，其中两个所述轴位于另一所述轴的两侧，并位于另一所述轴的上方；至少一个所述轴能够改变与其它两个所述轴中至少一个的间距；三个所述轴上均设有用于与晶圆相配合的限位槽。

2.根据权利要求1所述的晶圆清洗装置，其特征在于，位于上方的两个所述轴与所述支架活动连接；

所述装置还包括固定件，所述固定件用于将位于上方的两个所述轴固定。

3.根据权利要求2所述的晶圆清洗装置，其特征在于，所述支架上设有两个用于供位于上方的两个所述轴移动的移动槽；所述支架上设有第一螺纹孔；

所述固定件包括：

两个固定板，与位于上方的两个所述轴相对应，所述固定板上设有与所述轴相配合的限位孔；

一连接板，其上设有多个与所述第一螺纹孔相配合的第二螺纹孔；

一螺栓，与所述第一螺纹孔、第二螺纹孔相配合；

两个螺柱，安装在所述连接板上；

两个连接套，分别安装在两个所述固定板上，并分别与两个所述螺柱螺纹连接。

4.根据权利要求3所述的晶圆清洗装置，其特征在于，所述连接套与所述固定板转动连接。

5.根据权利要求1所述的晶圆清洗装置，其特征在于，所述限位槽为多个，沿所述轴的长度方向间隔布置。

6.根据权利要求1所述的晶圆清洗装置，其特征在于，该装置还包括转动机构；其中，位于下方的所述轴与所述支架转动连接，并与所述转动机构传动连接。

7.根据权利要求6所述的晶圆清洗装置，其特征在于，该装置至少一个擦拭单元，所述擦拭单元包括：

一支撑板；

两个第一擦拭件，用于布置于所述晶圆的两侧，均与所述支撑板连接。

8.根据权利要求6所述的晶圆清洗装置，其特征在于，所述擦拭单元还包括第二擦拭件，位于两个所述第一擦拭件，与所述支撑板连接，用于与所述晶圆的周向表面贴合。

9.根据权利要求7所述的晶圆清洗装置，其特征在于，该装置还包括：

一安装架；

一连接件，与所述支撑板连接，且与所述安装架活动连接。

10.根据权利要求9所述的晶圆清洗装置，其特征在于，该装置还包括紧固部，该紧固部用于将所述连接件限定。