[发明专利]制备丙二腈肟醚类化合物的方法及中间体化合物

权利要求书

1.一种制备丙二腈肟醚类化合物的中间体化合物，其特征在于，所述制备丙二腈肟醚类化合物的中间体化合物具有式(Ⅵ)所示的结构：

其中，所述W选自芳基或杂芳基，但所述W不选自以下基团：未取代的苯基、4-溴苯基、4-甲氧苯基、2-氰基苯基、3-氟苯基、4-硝基苯基、4-苯基苯基、4-苯甲酰苯基、3-苯氧基苯基和2-(1,3-二甲氧基-3-氧代-丙烯-2-基)苯基或苯并[1,2,3]噻二唑-7-基；表示化学键，且表示双键的构型可以是顺式或反式。

2.根据权利要求1所述的制备丙二腈肟醚类化合物的中间体化合物，其特征在于，所述W选自W¹～W⁸⁴中的任意一种：

其中，所述X¹、所述X²、所述X³、所述X⁴、所述X⁵、所述X⁶、所述X⁷、所述X⁸、所述X⁹各自独立地选自氢、卤素、氰基、硝基、-SF₅、C₁～C₈的烷基、C₁～C₈的卤代烷基、C₃～C₆的环烷基、C₂～C₈的烯基、C₂～C₈的卤代烯基、C₂～C₈的炔基、C₂～C₈的卤代炔基、C₁～C₈的烷氧基C₁～C₈的烷基、-OR³、-C(＝O)OR³、-N(R⁴)S(＝O)₂R⁵、-S(＝O)₂NR³R⁵、-N(R⁴)C(＝O)OR³、-CR⁴＝NOR³、-CH₂ON＝C(CN)₂、-C(＝O)SR³、-C(＝S)OR³、-C(＝S)SR³、-CR⁴＝NR⁵、-CR⁴＝N-NR³R⁵、-OSiR⁴R⁵R⁶、-OC(＝O)R⁴、-OC(＝O)OR³、-OC(＝O)NR³R⁴、-OC(＝S)NR³R⁴、-NR³R⁴、-N(R⁴)C(＝O)NR³R⁵、-N(R⁴)C(＝S)NR³R⁵、-N＝CR⁴R⁵、-N＝C-NR³R⁴、-N(R⁴)C(＝NR⁵)NR³R⁶、-N(R⁴)OR³、-N(R⁴)NR³R⁵、-N＝NR⁴、-N(R⁴)S(＝O)R⁵、-N(R⁴)S(＝O)₂OR³、-N(R⁴)S(＝O)OR³、-N(R⁴)S(＝O)NR³R⁵、-N(R⁴)S(＝O)₂NR³R⁵、NR⁴C(＝O)R⁵、-SR³、-S(＝O)₂R⁴、-S(＝O)R⁴、-S(＝O)OR³、-S(＝O)NR³R⁴、-S(＝O)₂OR³、-S(＝O)NR³R⁴、-SiR³R⁴R⁵、基团G¹或被取代基J¹任意取代的基团G¹，所述基团G¹选自苯基、吡啶基、吡唑基、噻唑基、异噻唑基或噻二唑基，所述取代基J¹选自卤素、氰基、硝基、C₁～C₈的烷基、C₁～C₈的卤代烷基、C₁～C₈的烷氧基、C₁～C₈的卤代烷氧基、C₁～C₈的烷硫基或C₁～C₈的卤代烷硫基；

所述Z选自氢、C₁～C₈的烷基、C₁～C₈的卤代烷基、C₃～C₆的环烷基、C₂～C₈的烯基、C₂～C₈的卤代烯基、C₂～C₈的炔基、C₂～C₈的卤代炔基、芳基、芳基取代的C₁～C₈烷基、C₁～C₈烷氧基取代的C₁～C₈烷基、-C(＝O)R³或-C(＝O)OR³；

所述K选自氧、硫、NR³、N-OR⁴或N-NR³R⁴；

所述R³选自氢、C₁～C₈的烷基、C₁～C₈的卤代烷基、C₃～C₆的环烷基、C₁～C₈的烷氧基羰基、C₂～C₈的烯基、C₂～C₈的卤代烯基、C₂～C₈的炔基、C₂～C₈的卤代炔基、基团G²或被取代基J²任意取代的基团G²，所述基团G²选自苯基、吡啶基、吡唑基、噻唑基、异噻唑基或噻二唑基，所述取代基J²选自卤素、氰基、硝基、羟基、巯基、氨基、-CONH₂、-COOH、-CHO、C₁～C₄的烷基、C₁～C₄的卤代烷基、C₃～C₆的环烷基、C₁～C₃的烷氧基、C₁～C₃的卤代烷氧基、C₁～C₃的烷硫基、C₁～C₃的卤代烷硫基、C₁～C₃烷基取代的氨基、C₁～C₃的二烷基取代的氨基、C₃～C₆环烷基取代的氨基、C₁～C₃的烷氧基羰基、C₁～C₃烷基磺酰基、C₁～C₃的烷基取代的氨基羰基或C₁～C₃烷基取代的氨基磺酰基；

所述R⁴、所述R⁵、所述R⁶各自独立地选自氢、C₁～C₈的烷基、C₁～C₈的卤代烷基、C₃～C₆的环烷基、C₁～C₈的烷氧基、C₁～C₈的卤代烷氧基、C₁～C₈的烷氧基羰基、C₂～C₈烯基、C₂～C₈卤代烯基、C₂～C₈炔基、C₂～C₈卤代炔基、基团G³或被取代基J³任意取代的基团G³，所述基团G³选自苯基、吡啶基、吡唑基、噻唑基、异噻唑基或噻二唑基，所述取代基J³选自卤素、氰基、硝基、羟基、巯基、氨基、-CONH₂、-COOH、-CHO、C₁～C₄烷基、C₁～C₄卤代烷基、C₃～C₆环烷基、C₁～C₃烷氧基、C₁～C₃卤代烷氧基、C₁～C₃烷硫基、C₁～C₃卤代烷硫基、C₁～C₃烷基氨基、C₁～C₃二烷基氨基、C₃～C₆环烷基氨基、C₁～C₃烷氧基羰基、C₁～C₃烷基磺酰基、C₁～C₃烷基氨基羰基或C₁～C₃烷基氨基磺酰基；

所述Q选自基团G⁴或被取代基J⁴任意取代的基团G⁴，所述基团G⁴选自苯基、吡啶基、吡唑基、噻唑基、异噻唑基或噻二唑基，所述取代基J⁴选自卤素、氰基、硝基、羟基、巯基、氨基、-CONH₂、-COOH、-CHO、C₁～C₄的烷基、C₁～C₄的卤代烷基、C₃～C₆的环烷基、C₁～C₃的烷氧基、C₁～C₃的卤代烷氧基、C₁～C₃的烷硫基、C₁～C₃的卤代烷硫基、C₁～C₃的烷基氨基、C₁～C₃的二烷基氨基、C₃～C₆的环烷基氨基、C₁～C₃的烷氧基羰基、C₁～C₃的烷基磺酰基、C₁～C₃的烷基氨基羰基或C₁～C₃的烷基氨基磺酰基；

所述T选自氰基、C₁～C₈的烷基、C₁～C₈的卤代烷基、C₃～C₆的环烷基、C₂～C₈的烯基、C₂～C₈的卤代烯基、C₂～C₈的炔基、C₂～C₈的卤代炔基、基团G⁵或被取代基J⁵任意取代的基团G⁵，所述基团G⁵选自苯基、吡啶基、吡唑基、噻唑基、异噻唑基或噻二唑基，所述取代基J⁵选自卤素、氰基、硝基、羟基、巯基、氨基、-CONH₂、-COOH、-CHO、C₁～C₄的烷基、C₁～C₄的卤代烷基、C₃～C₆的环烷基、C₁～C₃的烷氧基、C₁～C₃的卤代烷氧基、C₁～C₃的烷硫基、C₁～C₃的卤代烷硫基、C₁～C₃的烷基氨基、C₁～C₃的二烷基氨基、C₃～C₆的环烷基氨基、C₁～C₃的烷氧基羰基、C₁～C₃的烷基磺酰基、C₁～C₃的烷基氨基羰基或C₁～C₃的烷基氨基磺酰基。