[发明专利]基于分段函数轨迹优化的梯度及匀场线圈设计方法在审

专利信息
申请号: 202111589137.1 申请日: 2021-12-23
公开(公告)号: CN114282365A 公开(公告)日: 2022-04-05
发明(设计)人: 徐征;宣亮;吴嘉敏;贺玉成;何为;廖英翔 申请(专利权)人: 深圳航天科技创新研究院;徐征;吴嘉敏;贺玉成;何为;廖英翔
主分类号: G06F30/20 分类号: G06F30/20;G06F111/10;G06F119/02
代理公司: 北京同恒源知识产权代理有限公司 11275 代理人: 李弱萱
地址: 518000 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 基于 分段 函数 轨迹 优化 梯度 线圈 设计 方法
【权利要求书】:

1.基于分段函数轨迹优化的梯度及匀场线圈设计方法,其特征在于:该方法包括如下步骤:

S1:根据梯度线圈或匀场线圈的具体类型,在布线区域中选取对应的特征区域,以及线圈轨迹几何类型;

S2:在特征区域内确定对应每匝导线路径中的特征点,包括圆弧与抛物线或圆弧与对称直线的交点Pn、抛物线与对称轴交点Qn、对称直线与对称轴交点Qn,以及圆弧外径Rn,将通过分段函数构建线圈的最终整体结构;

S3:根据线圈的优化需求,确定优化目标和限制条件,包括磁场线性度、磁场相对目标场偏差度、梯度效率、最小线间距、指定区域杂散磁场和电阻;

S4:基于毕奥-萨伐尔定律建立线圈结构与磁场的对应关系,并根据S3建立数值优化问题,采用内点法等算法进行数值优化,获取满足S3需求下的最优解,即最优特征点参数集。

2.根据权利要求1所述的基于分段函数轨迹优化的梯度及匀场线圈设计方法,其特征在于:所述S1中,对于Z梯度线圈和Z2-(X2+Y2)/2匀场线圈,特征区域选取整个圆形布线域,线圈几何类型为渐开线;

对于X梯度线圈、Y梯度线圈、XZ匀场线圈和YZ匀场线圈,特征区域选取二分之一圆形布线域,线圈几何类型为圆弧、变半径弧、抛物线的组合;

对于X2-Y2匀场线圈和2XY匀场线圈,特征区域选取四分之一圆形布线域,线圈几何类型为圆弧、变半径弧和对称直线的组合。

3.根据权利要求2所述的基于分段函数轨迹优化的梯度及匀场线圈设计方法,其特征在于:所述S2中,对于Z梯度线圈和Z2-(X2+Y2)/2匀场线圈,特征点由集R={R1、R2、…、RN}组成,其代表每一匝渐开线与对称轴的交点;

对于其余线圈,特征点由集P={P1,P2,…,PN}、Q={Q1,Q2,…,QN}、R={R1,R2,…,RN}组成,P代表抛物线与对称轴交点,Q代表抛物线或对称直线与圆弧的交点,R代表某匝圆弧外径。

4.根据权利要求2所述的基于分段函数轨迹优化的梯度及匀场线圈设计方法,其特征在于:所述S2中,若抛物线与圆弧交点处、对称直线与对称轴交点处连接存在锐角,则在相邻点处取切线,作出连接圆弧,实现平滑化处理。

5.根据权利要求1所述的基于分段函数轨迹优化的梯度及匀场线圈设计方法,其特征在于:所述设计方法用于双平面型永磁体、电磁体或超导磁共振成像系统的梯度和匀场线圈,包括3种梯度线圈:X方向梯度线圈、Y方向梯度线圈和Z方向梯度线圈,以及5种高阶匀场线圈:XZ匀场线圈、YZ匀场线圈、X2-Y2匀场线圈、2XY匀场线圈和Z2-(X2+Y2)/2匀场线圈。

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