[发明专利]一种光电信息泄漏防护薄膜、装置及其制备方法和用途在审

专利信息
申请号: 202111586781.3 申请日: 2021-12-23
公开(公告)号: CN114126394A 公开(公告)日: 2022-03-01
发明(设计)人: 曾子上;范彭宇 申请(专利权)人: 北京伊斯普电子技术有限公司;泰州宏智光电科技有限公司
主分类号: H05K9/00 分类号: H05K9/00
代理公司: 北京市隆安律师事务所 11323 代理人: 禹静
地址: 100076 北京市*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 光电 信息 泄漏 防护 薄膜 装置 及其 制备 方法 用途
【权利要求书】:

1.一种光电信息泄漏防护薄膜,所述包括至少一个防护单元(2),其中,

所述防护单元(2)包括叠层设置的功能层(21)和干涉滤光层(22),所述功能层(21)为同时具有电磁屏蔽功能和红外吸收功能的材料,所述干涉滤光层(22)为透明的绝缘材料。

2.根据权利要求1所述的光电信息泄漏防护薄膜,其特征在于:所述功能层(21)包括具有红外吸收功能且可形成透明导电层的材料。

3.根据权利要求1所述的光电信息泄漏防护薄膜,其特征在于:

所述功能层(21)选自铯钨青铜、三氧化二砷、铝掺杂的氧化锌、氧化锡锑、或氧化铟锡中的一种或多种;

所述干涉滤光层(22)选自二氧化硅、聚甲基丙烯酸甲酯、聚苯乙烯、聚碳酸脂中的一种或多种。

4.根据权利要求1所述的光电信息泄漏防护薄膜,其特征在于:所述光电信息泄漏防护薄膜包括依次叠层设置的多个所述防护单元(2),相邻的所述防护单元(2)之间通过功能层(21)和干涉滤光层(22)相互附着,形成所述功能层(21)和所述干涉滤光层(22)间隔设置的结构。

5.根据权利要求1所述的光电信息泄漏防护薄膜,其特征在于:所述光电信息泄漏防护薄膜进一步包括所述基底层(1),所述防护单元(2)与所述基底层(1)连接。

6.根据权利要求5所述的光电信息泄漏防护薄膜,其特征在于:所述光电信息泄漏防护薄膜进一步包括胶层(3)和保护层(4),所述基底层(1)、所述防护单元(2)、所述胶层(3)和所述保护层(4)依次叠层设置。

7.一种光电信息泄漏防护装置,其特征在于,所述光电信息泄漏防护装置上设置有权利要求1-6中任意一项所述的光电信息泄漏防护薄膜。

8.一种根据权利要求1-6中任意一项光电信息泄漏防护薄膜的制备方法,包括连接所述防护单元的步骤,

连接所述防护单元(2)的步骤进一步包括将功能层(21)和干涉滤光层(22)连接在一起,形成所述功能层(21)和所述干涉滤光层(22)叠层设置的结构。

9.根据权利要求7所述的一种光电信息泄漏防护装置的制备方法,该方法包括,将权利要求1-6中任意一项所述的光电信息泄漏防护薄膜安装在所述光电信息泄漏防护装置上。

10.权利要求1-6中任意一项所述的光电信息泄漏防护薄膜、权利要求7所述的光电信息泄漏防护装置在防止光电信息泄露中的用途。

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