[发明专利]一种微距自浸式显微成像系统及其显微成像方法

权利要求书

1.一种微距自浸式显微成像系统，其特征在于，该系统包括浸液透镜、透镜组、光阑、前固定镜组、变倍镜组、补偿镜组、调焦镜组和相机；其中，所述浸液透镜用于与样本所在液体环境浸润接触；所述光阑用于改变光通量；照明光路依次经过所述浸液透镜、所述透镜组、所述光阑、所述前固定镜组、所述变倍镜组、所述补偿镜组、所述调焦镜组，汇聚于所述相机；所述前固定镜组用于将所述透镜组的像成像至所述变倍镜组所要求的物平面。

2.根据权利要求1所述的微距自浸式显微成像系统，其特征在于，所述浸液透镜为双凸透镜，焦距为2.2mm～3.2mm，材料折射率范围为1.73～1.75，阿贝数范围为43～45。

3.根据权利要求1所述的微距自浸式显微成像系统，其特征在于，所述透镜组用于将进入所述浸液透镜的光整合至所述光阑，所述透镜组的组合焦距为8.0mm～10mm，所述透镜组的材料折射率范围依次为1.73～1.75、1.74～1.76和1.6～1.65，所述透镜组的阿贝数范围依次为43～46、25～30和52～58。

4.根据权利要求1所述的微距自浸式显微成像系统，其特征在于，所述前固定镜组为弯月透镜，焦距为22mm～30mm，折射率范围为1.75～1.82，阿贝数范围为23～25。

5.根据权利要求1所述的微距自浸式显微成像系统，其特征在于，所述变倍镜组为双凸正透镜，焦距为30mm～40mm，折射率范围为1.45～1.5，阿贝数范围为77～82。

6.根据权利要求1所述的微距自浸式显微成像系统，其特征在于，所述补偿镜组为弯月透镜，焦距为65～74mm，折射率范围为1.75～1.82，阿贝数范围为23～25。

7.根据权利要求1所述的微距自浸式显微成像系统，其特征在于，所述调焦镜组的焦距为35mm～43mm，折射率范围为1.65～1.72，阿贝数范围为53～58。

8.根据权利要求1所述的微距自浸式显微成像系统，其特征在于，该系统的物方层析观测范围为±0.02mm。

9.一种微距自浸式显微成像方法，其特征在于，该显微成像方法包括以下步骤：

步骤1、对如权利要求1-8中的任一项所述的微距自浸式显微成像系统进行标定；

步骤2、将目标样本置于样品池中，并将样品池置于样品平台；

步骤3、将样品池中的目标样本与所述微距自浸式显微成像系统的浸液透镜接触，开启光源照亮目标样本，照亮目标样本的光依次经过浸液透镜、透镜组、光阑、前固定镜组、变倍镜组、补偿镜组、调焦镜组，汇聚于相机。

10.根据权利要求9所述的微距自浸式显微成像方法，其特征在于，所述光源选自复色光或单色光；当所述光源为单色光时，其波段范围为470nm～630nm。