[发明专利]一种微粗糙目标的散射中心参数反演方法及装置在审

专利信息
申请号: 202111571220.6 申请日: 2021-12-21
公开(公告)号: CN114265033A 公开(公告)日: 2022-04-01
发明(设计)人: 邢笑宇;霍超颖;朱晨曦;满良 申请(专利权)人: 北京环境特性研究所
主分类号: G01S7/41 分类号: G01S7/41;G06F17/16
代理公司: 北京格允知识产权代理有限公司 11609 代理人: 王文雅
地址: 100854*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 粗糙 目标 散射 中心 参数 反演 方法 装置
【权利要求书】:

1.一种微粗糙目标的散射中心参数反演方法,其特征在于,包括以下步骤:

S1、构建微粗糙目标GTD模型;其中,微粗糙目标GTD模型的表达式为S(kn)为雷达回波信号;kn为波数,n=1,2,…,N,N是雷达频率采样点数;m=1,2,…,M,M是散射中心个数;Am为第m个散射中心的复散射幅度系数;rm为第m个散射中心的径向位置;hm为微粗糙表面的粗糙度参数;αm为类型参数,其取值于-1、-0.5、0、0.5或1;kc为中心波数;en为测量噪声;

S2、基于微粗糙目标GTD模型构建稀疏表达式;其中,稀疏表达式为S=Φσ+E;S为目标观测回波列向量,S=[S(k1),S(k2),…,S(kN)]T;Φ为微粗糙目标GTD模型的稀疏字典矩阵,Φ=[φ(k1),φ(k2),…,φ(kN)]T,φ(kn)(n=1,…,N)是由构成的L×P×5维列向量,rl(l=1,…,L)为径向位置rm的所有的可能取值,hp(p=1,…,P)为粗糙度参数hm的所有的可能取值;αi(i=1,…,5)为类型参数的五种取值;

S3、基于稀疏表达式设置双正交匹配追踪门限;

S4、初始化参数;其中,参数包括残差、索引集、稀疏基矩阵、支撑集矩阵和迭代次数;

S5、更新迭代次数;

S6、对上一次迭代的稀疏基矩阵进行正交化操作,使已选原子与待选原子去相关;

S7、对正交化后的稀疏基矩阵的每一列进行归一化操作;

S8、基于归一化后的稀疏基矩阵,计算元素索引;

S9、根据计算得到的元素索引,更新索引矩阵和支撑集矩阵;

S10、根据更新的支撑集矩阵,估计稀疏系数向量;

S11、根据稀疏系数向量,更新残差向量;

S12、根据更新的残差向量和双正交匹配追踪门限,判断是否满足收敛条件;若满足条件,则停止迭代;否则返回步骤S5;

S13、输出索引矩阵和稀疏系数向量。

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,

步骤S3中,双正交匹配追踪门限的表达式为a=0.01*||S||2,||·||2为向量2范数;

步骤S4包括:初始化残差向量R(0)=S,初始化索引集初始化稀疏基矩阵Z(0)=Φ,初始化支撑集矩阵Ω(0)=[],初始化迭代次数t=0。

3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,步骤S6包括:

若t=1,则跳过步骤S6,直接进行步骤S7;

若t≥2,则对于Z(t-1)的每一列进行正交化操作,使已选原子与待选原子去相关,表达式为:

其中,表示支撑集矩阵Ω(t-1)的最后一列。

4.根据权利要求3所述的方法,其特征在于,步骤S8包括:

计算当前残差R(t-1)与稀疏基矩阵Z(t)各列的内积,找出使内积最大的列元素索引的表达式为·为内积运算符。

5.根据权利要求4所述的方法,其特征在于,步骤S9包括:

对索引集矩阵J进行更新,记录元素索引其中,更新后的索引集矩阵表达式为

更新支撑集矩阵Ω;其中,更新后的支撑集矩阵为为稀疏字典矩阵Φ的第列。

6.根据权利要求5所述的方法,其特征在于,

步骤S10中,稀疏系数向量的表达式为其中,H代表Hermitian转置;

步骤S11中,更新后的残差向量为

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